[实用新型]涂布机喷嘴及涂布机

说明书

技术领域

本实用新型涉及设备优化，具体地涉及一种涂布机喷嘴及涂布机。

背景技术

在TFT LCD制程的Array和CF工艺或半导体制程中，光阻涂布机的涂布膜厚的均一性要求较高(小于3％)，而决定涂布膜厚精度的结构主要是喷嘴和涂布泵，但涂布机在涂布过程中，沿喷嘴行走方向的两边膜厚会较中间部分要偏小，导致涂布的均一性不好，且就现有涂布喷嘴结构来说，其涂布的均一性的提升很难。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的问题，提供一种涂布机喷嘴及涂布机，该涂布机喷嘴及涂布机可以改善涂布膜厚均一性，减少因调整涂布喷嘴狭缝所花费的时间，提高设备稼动率。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种涂布机喷嘴，该涂布机喷嘴包括通过光阻管路依次连接的：光阻入口、输入槽、第一缓存囊以及喷涂狭缝，该涂布机喷嘴还包括：至少一个第二缓存囊，该至少一个第二缓存囊与所述第一缓存囊串联连接在所述喷涂狭缝和所述输入槽之间。

优选地，所述涂布机喷嘴包括至少一个通道，该至少一个通道设置在与所述输入槽连接的缓存囊与所述输入槽之间。

优选地，所述光阻管路具有至少两个光阻入口。

优选地，所述至少一个通道的数量为三个。

优选地，三个通道分别位于所述输入槽长度方向的中间和两端。

优选地，所述至少一个光阻入口的数量是三个。

优选地，所述光阻管路包括与所述通道的数量相同的光阻入口。

优选地，所述光阻入口与所述通道位置对应。

优选地，所述至少一个光阻入口至所述输入槽之间的部分光阻管路与所述输入槽垂直。

优选地，本实用新型还提供一种涂布机，该涂布机包括上文所述的涂布机喷嘴。

通过上述技术方案，采用本实用新型提供的涂布机喷嘴，该涂布机喷嘴包括：通过光阻管路依次连接的：光阻入口、输入槽、第一缓存囊以及喷涂狭缝，该涂布机喷嘴还包括：至少一个第二缓存囊，该至少一个第二缓存囊与所述第一缓存囊串联连接在所述喷涂狭缝和所述输入槽之间。该涂布机喷嘴可以改善涂布膜厚均一性，减少因调整涂布喷嘴狭缝所花费的时间，提高设备稼动率。

附图说明

图1是本实用新型一实施方式提供的涂布机喷嘴结构示意图；

图2是本实用新型一实施方式提供的涂布机喷嘴内部光阻流动示意图；

图3是本实用新型另一实施方式提供的涂布机喷嘴内部光阻流动示意图；以及

图4是本实用新型另一实施方式提供的涂布机喷嘴内部光阻流动示意图。

附图标记说明

1 光阻入口2输入槽

31第一缓存囊32 第二缓存囊

4 喷涂狭缝5喷嘴本体

6 光阻管路。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

实施例一

图1是本实用新型一实施方式提供的涂布机喷嘴结构示意图。如图1所示，该涂布机喷嘴包括：通过光阻管路6依次连接的：光阻入口1、输入槽 2、第一缓存囊31以及喷涂狭缝4，该涂布机喷嘴还包括：至少一个第二缓存囊32，该至少一个第二缓存囊32与所述第一缓存囊31串联连接在所述喷涂狭缝4和所述输入槽2之间。

在附图中，光阻管路6是光阻入口1至输入槽2以及输入槽2至喷涂狭缝4之间的部分，但是本实用新型中，此光阻管路6仅为了表示光阻流动的路径，并不一定是实体管路。光阻管路6具有光阻入口1，优选地，光阻入口1至输入槽2之间的部分光阻管路与所述输入槽2垂直。

在本实用新型中，为了方便说明，以下附图均设置第一缓存囊31连接所述输入槽2，但本实用新型不限于此，第二缓存囊32也可以连接所述输入槽2。第二缓存囊32可以是多层的，具体多少层需考量喷嘴结构复杂性与设备成本、产品膜厚均一性要求做协调，且第二缓存囊32级数越高，其均一性改善效应会递减，根据一般边际效应递减原理，建议使用1～2级第二缓存囊32，本实用新型优选使用一个第二缓存囊32。如图1所示，优选地，第一缓存囊31和第二缓存囊32可以是上下叠加设置的，上方缓存囊31之上连接输入槽2，下方缓存囊32之下连接喷涂狭缝4，光阻管路从喷嘴一侧横向贯穿喷嘴的一半，光阻从光阻入口1进入并自上向下流动，最后从喷涂狭缝4流出以进行涂布。