[实用新型]一种热处理用双室真空炉的送料系统有效
申请号: | 201720454375.4 | 申请日: | 2017-04-27 |
公开(公告)号: | CN206956094U | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 陈红进;杨晔;袁建锋 | 申请(专利权)人: | 江苏石川岛丰东真空技术有限公司 |
主分类号: | C21D9/00 | 分类号: | C21D9/00;C21D1/773 |
代理公司: | 无锡互维知识产权代理有限公司32236 | 代理人: | 孙际德,茅泉美 |
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搜索关键词: | 一种 热处理 用双室 真空炉 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及热处理装置,具体地说是一种热处理用双室真空炉的送料系统。
背景技术
真空炉被作为热处理行业设备更新换代的装备之一,其重要原因是真空炉处理的产品零件表面光亮、少无氧化、性能好、精度高,真空炉生产运行中易实现节能、降耗、减污,属于清洁生产装备,符合当今环保的要求。真空中气体分子极少,分子的自由程变大,因此可以生产出常压下无法得到的轻稀有金属、难熔金属、稀有金属及其它特种合金材料等。
双室真空炉包括有前室和后室,后室为加热室,其内部为高温环境。目前,使用双室真空炉对工件进行热处理时,一般手动将工件送到前室,然后关闭前门。工件热处理过程中,需要在前室和后室之间流转,因此需要在前室和后室之间设置送料机构。现有技术中的送料机构分为推拉式和滚动式两种。
但这几种机构存在如下缺点:
(1)推拉式送料机构位于前室和后室之间,其供料过程中,其包括料盘在内的主体结构均随工件进入后室内。主体结构热膨胀后产生老化变形。因此,推拉料机构存在定位不准和不易脱钩的问题。
(2)滚动料盘进出前、后室过程中,滚轮上容易粘附淬火油等热处理介质,造成送料机构打滑,可能造成工件滑落。
实用新型内容
本实用新型针对上述问题,提供了一种热处理用双室真空炉的送料系统,其有效地解决了现有技术中的双室真空炉送料机构存在的技术缺陷。其具体技术方案如下:
一种热处理用双室真空炉的送料系统,所述热处理用双室真空炉包括有前室和后室,其特征在于:所述送料系统包括驱动传送装置及抬升抬降装置,所述驱动传送装置设置在所述前室内,所述抬升抬降装置设置在所述后室的下方并延伸至所述后室内;所述驱动传送装置用于实现热处理工件在前室和后室之间的流转,所述抬升抬降装置用于实现热处理工件的抬升及抬降。
作为本实用新型的进一步改进,所述抬升抬降装置包括电机及水平设置在所述电机上方的托盘,所述电机的周围均匀布置有四个换向器,所述电机与所述换向器经梅花联轴器连接,所述换向器与所述托盘经涡轮蜗杆升降轴连接,所述托盘上连接有石墨料台支撑架,所述后室的底板上设有通孔,所述石墨料台支撑架经所述通孔延伸至所述后室内。
作为本实用新型的进一步改进,所述驱动传送装置包括有滑轨组件及用于驱动所述滑轨组件滑动的减速机驱动装置,所述滑轨组件上设有齿条,所述减速机驱动装置上连接有与所述齿条啮合的齿轮,所述减速机驱动装置经所述齿轮及所述齿条驱动所述滑轨组件在所述前室和所述后室之间来回滑动。
作为本实用新型的进一步改进,所述滑轨组件包括有上部滑轨、中部滑轨、下部滑轨及传动链条,所述上部滑轨滑动连接在所述中部滑轨上,所述中部滑轨滑动连接在所述下部滑轨上,所述下部滑轨固定设置在所述前室内,所述齿条沿轴向设置在所述中部滑轨上;所述传动链条附着在所述中部滑轨上,其一端固定连接在所述上部滑轨上,另一端固定连接在所述下部滑轨上;所述中部滑轨靠近后室的一端包覆于所述传动链条内,所述中部滑轨远离所述后室的一端则暴露于所述传动链条外。
作为本实用新型的进一步改进,所述上部滑轨上设有若干个组第一滚轴,所述上部滑轨经所述第一滚轴与所述中部滑轨滑动连接;所述中部滑轨上向设有若干组第二滚轴,所述中部滑轨经所述第二滚轴与所述下部滑轨滑动连接。
作为本实用新型的进一步改进,所述中部滑轨上设有第一导槽及第二导槽,所述第一滚轴嵌入至所述第一导槽内并能沿所述第一导槽来回滑动,所述第二滚轴嵌入至所述第二导槽内并能沿所述第二导槽来回滑动。
与现有技术相比,本实用新型的具有如下显著技术效果:送料系统的主体结构位于真空炉的后室的外部,因此其能够远离高温环境,避免受热膨胀产生老化失效。
附图说明
图1为一个具体实施例中本实用新型的热处理用双室真空炉的送料系统的结构示意图;
图2为图1中的抬升抬降装置在抬降状态下的结构示意图;
图3为图1中的抬升抬降装置在抬升状态下的结构示意图;
图4为图1中的驱动传送装置的结构示意图;
图5为图4的B-B剖视图;
图6为图4的俯视图;
图7为图6的A-A剖视图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点、能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
本实用新型提出了一种热处理用双室真空炉的送料系统,所述热处理用双室真空炉包括有前室和后室。
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