[实用新型]基座载台、基座组件及研磨装置有效
申请号: | 201720458516.X | 申请日: | 2017-04-27 |
公开(公告)号: | CN206764552U | 公开(公告)日: | 2017-12-19 |
发明(设计)人: | 谭巧敏;谢祖荣;沙酉鹤;黄涛 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基座 组件 研磨 装置 | ||
1.一种基座载台,其特征在于,所述基座载台包括:
中心部、位于所述中心部外围的边缘环形部、以及连接所述中心部与所述边缘环形部的若干个连接部;
其中,所述中心部内设置有上下贯穿的排水孔,所述连接部内设置有上下贯穿的通孔。
2.根据权利要求1所述的基座载台,其特征在于,所述中心部的中心、所述边缘环形部的中心以及所述排水孔的中心重合。
3.根据权利要求2所述的基座载台,其特征在于,所述中心部的形状为正多边形或圆形。
4.根据权利要求1所述的基座载台,其特征在于,所述连接部的数量至少为3个,且所述连接部沿所述中心部的周向均匀分布。
5.根据权利要求1所述的基座载台,其特征在于,所述连接部包括连接部本体以及设置于所述连接部本体表面的若干个凸部,
其中,所述凸部之间形成流道,所述通孔设置于所述流道内。
6.根据权利要求5所述的基座载台,其特征在于,所述凸部平行间隔分布,并沿所述连接部长度方向延伸,且所述凸部的长度与所述连接部本体的长度相同。
7.根据权利要求6所述的基座载台,其特征在于,所述凸部的上表面呈弧形。
8.根据权利要求6所述的基座载台,其特征在于,所述通孔沿所述流道的长度方向分布。
9.根据权利要求8所述的基座载台,其特征在于,所述通孔沿所述流道的长度方向呈单排均匀分布。
10.根据权利要求6所述的基座载台,其特征在于,所述流道的上表面自靠近所述边缘环形部的一侧至靠近所述中心部的一侧逐渐降低,且其靠近所述中心部一侧的上表面不低于所述中心部的上表面。
11.一种基座组件,其特征在于,所述基座组件包括基座本体以及位于所述基座本体上的如权利要求1~10中任一项所述的基座载台。
12.一种研磨装置,其特征在于,所述研磨装置包括研磨头组件以及如权利要求11所述的基座组件。
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