[实用新型]一种薄膜制备装置

权利要求书

1.一种薄膜制备装置，用于在基材上涂覆成膜流体以形成薄膜，其特征在于，包括基材输送机构、涂覆机构和膜厚调节机构，其中，所述涂覆机构和所述膜厚调节机构彼此间隔开，所述基材输送机构用于输送所述基材顺次经过所述涂覆机构和所述膜厚调节机构，所述涂覆机构用于向所述基材上涂覆成膜流体，所述膜厚调节机构用于刮除所述基材上的一部分成膜流体。

2.根据权利要求1所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述涂覆机构包括水平设置的涂覆辊，所述涂覆辊的外表面上设置有沿纵向延伸的流体出口。

3.根据权利要求2所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述涂覆辊的至少一端设置有流体入口，所述流体入口与所述流体出口之间在所述涂覆辊的内部保持相通。

4.根据权利要求2所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述流体出口的宽度为5～10mm。

5.根据权利要求2所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述涂覆辊为圆柱体，所述流体出口位于所述圆柱体的最高的母线处。

6.根据权利要求2所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述涂覆机构还包括第一高度调节机构，以用于调节所述涂覆辊到所述基材的距离。

7.根据权利要求6所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述涂覆辊到所述基材的距离在0～30mm的范围内可调。

8.根据权利要求1所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述膜厚调节机构包括水平设置的膜厚调节辊，所述膜厚调节辊在旋转过程中刮除一部分成膜流体。

9.根据权利要求8所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述膜厚调节机构还包括第二高度调节机构，以用于调节所述膜厚调节辊到所述基材的距离。

10.根据权利要求9所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述膜厚调节辊到所述基材的距离在-20～20mm的范围内可调。

11.根据权利要求1所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述膜厚调节机构和所述涂覆机构中的至少一者包括水平位置调节机构，以用于调节所述膜厚调节机构与所述涂覆机构之间的距离。

12.根据权利要求11所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述膜厚调节机构与所述涂覆机构之间的距离在3000～4500mm的范围内可调。

13.根据权利要求1所述的薄膜制备装置，其特征在于，还包括风刀组件，所述风刀组件设置在所述膜厚调节机构的下游侧。

14.根据权利要求1-13之一所述的薄膜制备装置，其特征在于，所述薄膜制备装置为反渗透膜制备装置或纳滤膜制备装置，并且其中，所述成膜流体为油相液。