[实用新型]一种去应力键槽有效

专利信息
申请号: 201720466596.3 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN206936017U 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 王少琨 申请(专利权)人: 石家庄市红旗轧辊制造有限公司
主分类号: B21B27/02 分类号: B21B27/02
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所13120 代理人: 王丽巧
地址: 050091 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 应力 键槽
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及传动零件技术领域,尤其涉及一种去应力键槽。

背景技术

轧辊作为轧机上使受轧制的金属发生塑性变形的部件,是决定轧机效率和轧材质量的重要消耗部件,因此轧辊的加工质量控制极其严格。通常大规格的圆柱形轧辊需要设计为分体式结构,轧辊内孔与辊轴通过健连接配合使用。其中,在轧辊内孔加工完成后需要拉键槽,在轧辊内孔加工出键槽后需要进行热处理,常规键槽的横截面为矩形,在热处理过程中往往会在键槽处存在局部过热、应力集中的现象,导致装配后键槽在应用过程中出现开裂。如何优化键槽结构来降低应力集中造成的影响,是技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种去应力键槽,能够减小键槽各部应力集中现象,提高轧辊使用寿命。

为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:

一种去应力键槽,包括槽底和对称设置的槽壁,所述槽底设有下凹的去应力弧面,所述弧面沿键槽长度方向设置。

优选地,所述弧面为一个、且设置在槽底,所述弧面两侧边与槽壁下底边重合。

进一步地,所述槽壁上边缘圆弧过渡。

优选地,所述弧面为两个、且分别设置在槽底两侧,所述弧面两侧边分别与槽壁、槽底相连。

进一步地,所述弧面两侧边分别与槽壁、槽底圆弧过渡。

进一步地,与两个弧面相邻的槽壁上边缘圆弧过渡。

采用上述技术方案所产生的有益效果在于:本实用新型具有结构简单、去应力效果好的优点,通过在轧辊键槽的槽底设置去应力弧面,能够减少热处理过程中的应力集中现象,进而减小键槽开裂的隐患,保证轧辊装配后使用过程的安全性。

附图说明

图1是本实用新型实施例1提供的一种去应力键槽的结构示意图;

图2是本实用新型实施例2提供的一种去应力键槽的结构示意图;

图中:1-弧面,2-槽壁,3-槽底,4-轧辊。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本实用新型作进一步详细的说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

本实用新型提供的一种去应力键槽,包括槽底3和对称设置的槽壁2,所述槽底3设有下凹的去应力弧面1,所述弧面1沿键槽长度方向设置。

由于在轧辊热处理过程中,过热会使其强度降低,键槽为易产生应力集中的缺口部位,应力集中增大了内孔冷却后的拉应力,当拉应力达到或超过材料的脆断抗力时,就会导致键槽开裂。通过在轧辊键槽的槽底设置去应力弧面,或者在辊轴键槽的槽底加工出去应力弧面,能够减少热处理过程中的应力集中现象,进而减小键槽开裂的隐患,保证轧辊装配后使用过程的安全性。

实施例1:参见图1,在轧辊4内孔的键槽槽底3加工出弧面1,所述弧面1为一个、且设置在槽底3,所述弧面1两侧边与槽壁2下底边重合。

为了进一步优化上述技术方案,所述槽壁2上边缘圆弧过渡。利用槽壁上边缘圆弧过渡的圆角,起到卸应力的效果,因为圆角比倒角卸应力效果更好。

实施例2:参见图2,在轧辊4内孔的键槽槽底3两侧加工出两个弧面1,即将所述弧面1设计为两个、且分别设置在槽底3的两侧,所述弧面1两侧边分别与槽壁2、槽底相连。

为了进一步优化上述技术方案,所述弧面1两侧边分别与槽壁2、槽底圆弧过渡,通过圆弧过渡形成的圆角可以避免弧面与槽底、槽壁连接处形成尖角而产生应力集中现象,因为尖角处容易导致应力集中而开裂。

进一步优化上述技术效果,与两个弧面1相邻的槽壁2上边缘圆弧过渡。同样利用槽壁上边缘的圆弧过渡来起到卸应力的作用,减少热处理过程中的应力集中现象。

图1、2仅是在轧辊的孔内键槽内设置去应力弧面,同理也可以在轴辊的外圆面上加工出带有去应力弧面的键槽,使轧辊与轴辊装配后运行更稳定,提高安全系数,延长设备使用寿命。

综上所述,本实用新型具有结构简单、加工方便、去应力效果好的优点,通过在轧辊的孔内键槽或辊轴的外圆键槽的槽底设置去应力弧面,能够减少键槽处在热处理过程中的应力集中现象,进而减小键槽开裂的安全隐患,保证轧辊装配后使用过程的安全性,进而延长轧辊使用寿命。

本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以对本实用新型进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。

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