[实用新型]强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统有效
| 申请号： | 201720473371.0 | 申请日： | 2017-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN206907500U | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 王祖军;陈伟;薛院院;刘敏波;刘静;何宝平;姚志斌;郭红霞;金军山;马武英;盛江坤;董观涛 | 申请（专利权）人： | 西北核技术研究所 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06;G21F3/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司61211 | 代理人： | 陈广民 |
| 地址： | 710024 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电离辐射 环境 光电 成像 监测 辐射 防护 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统，其特征在于：包括成像反射模块和辐射屏蔽模块；所述成像反射模块位于辐射源和光电成像监测系统之间，用于将辐射源的图像信息经光路反射后进入光电成像监测系统；所述辐射屏蔽模块围设在光电成像监测系统外部，用于屏蔽辐射源发出的射线。
2.根据权利要求1所述的强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统，其特征在于：所述成像反射模块包括一组或多组反射镜。
3.根据权利要求2所述的强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统，其特征在于：所述反射镜为平面反射镜或者凸面反射镜。
4.根据权利要求1所述的强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统，其特征在于：所述辐射屏蔽模块包括围绕在光电成像监测系统周围的辐射屏蔽墙。
5.根据权利要求4所述的强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统，其特征在于：所述辐射屏蔽墙由铅砖、铝片或者铅砖和铝片的组合材料构成。
6.根据权利要求4或5所述的强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统，其特征在于：所述辐射屏蔽模块还包括位于光电成像监测系统镜头感光面上的防辐射玻璃。
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