[实用新型]一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置有效
| 申请号： | 201720482868.9 | 申请日： | 2017-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN207300868U | 公开（公告）日： | 2018-05-01 |
| 发明（设计）人： | 潘瑞宝 | 申请（专利权）人： | 富兰登科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司11401 | 代理人： | 巴晓艳 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 应用 光谱仪 来量测电浆 气体 解离 状态 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，包含：
一主路径，供半导体积体电路制造时，进行电浆辅助沉积、薄膜蚀刻及改变材料表面；
结合于该主路径之第二路径，供容置反应气体；
侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置，设于主路径与第二路径之间，藉由该侦测件侦测管体内之气体解离状态，并由光谱仪量测气体解离状态装置计算出解离相对量值。
2.根据权利要求1所述的一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，主路径与第二路径之间以管体连结，该侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置设于该管体。
3.根据权利要求1所述的一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，该侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置设于该主路径内。
4.根据权利要求1所述的一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，该侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置设于该第二路径内。
5.根据权利要求1所述的一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，该侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置设于流体路径。
6.根据权利要求1所述的一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，该侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置可设置在电浆源设备、电浆气体腔室及电控统之装置中。
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