[实用新型]应用于3D成像的激光阵列及其激光投影装置和3D成像设备有效
| 申请号： | 201720488477.8 | 申请日： | 2017-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN207134607U | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 王兆民;许星 | 申请（专利权）人： | 深圳奥比中光科技有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/42 | 分类号： | H01S5/42;G03B15/02;G03B35/00 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 应用于 成像 激光 阵列 及其 投影 装置 设备 | ||
1.一种应用于3D成像的激光阵列，其特征在于，包括：半导体衬底，VCSEL光源，所述VCSEL光源以二维阵列的形式分布在所述半导体衬底的表面，其中，所述二维阵列包括多个相同的扇形子阵列，所述扇形子阵列共用同一个圆心。
2.如权利要求1所述的应用于3D成像的激光阵列，其特征在于：所述扇形子阵列的圆心角包括15°、30°、45°、60°、90°或120°。
3.如权利要求1所述的应用于3D成像的激光阵列，其特征在于，所述扇形子阵列中VCSEL光源的数量不超过24，所述二维阵列中VCSEL光源的数量不超过576。
4.如权利要求1所述的应用于3D成像的激光阵列，其特征在于，所述扇形子阵列中所述VCSEL光源的排列方式为不规则排列。
5.如权利要求1所述的应用于3D成像的激光阵列，其特征在于，所述二维阵列的排布方式是由一个扇形子阵列通过围绕其圆心旋转复制的形式产生。
6.如权利要求1所述的应用于3D成像的激光阵列，其特征在于，相邻的两个所述扇形子阵列之间包括：部分相互重叠、存在无VCSEL光源的间隔区域、边缘重合的一种或多种情况。
7.一种激光投影装置，其特征在于，包括：
权利要求1-6任一所述的应用于3D成像的激光阵列；
透镜，用于接收且汇聚由所述激光阵列发射的光束；
斑点图案生成器，用于将所述光束进行分束后向空间中发射斑点图案光束。
8.如权利要求7所述的激光投影装置，其特征在于，所述透镜包括单个透镜和/或微透镜阵列；所述斑点图案生成器包括微透镜阵列、DOE、光栅中的一种或多种。
9.一种3D成像设备，其特征在于，包括：
权利要求7-8任一所述的激光投影装置，用于向空间中发射结构光图案光束；
图像采集装置，用于采集由所述结构光图案光束照射在目标物体上所形成的结构光图像；
处理器，接收所述结构光图像并根据三角法原理计算出所述目标物体的深度图像。
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