[实用新型]材料表面处理工艺过程中的等离子体三维信息诊断系统有效
申请号: | 201720494804.0 | 申请日: | 2017-05-05 |
公开(公告)号: | CN206920020U | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 倪俊;葛胜兵;安宁 | 申请(专利权)人: | 安徽谱泉光谱科技有限公司 |
主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28;G01J3/06;G01N21/25 |
代理公司: | 合肥顺超知识产权代理事务所(特殊普通合伙)34120 | 代理人: | 赵宗海 |
地址: | 230000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 材料 表面 处理 工艺 过程 中的 等离子体 三维 信息 诊断 系统 | ||
1.一种材料表面处理工艺过程中的等离子体三维信息诊断系统,其特征在于:所述诊断系统包括计算机、第一平面反射镜、聚焦透镜、入射狭缝、第二平面反射镜、第一球面反射镜、凸面光栅、第二球面聚焦镜和面阵探测器,所述诊断系统布置在表面处理工艺腔体外,所述诊断系统最前端为可旋转式平面反射镜,所述诊断系统采用聚焦镜头将平面反射镜采集的光聚焦到Offner成像光谱仪的入射狭缝处,所述诊断系统利用平面反射镜来偏转光路,所述诊断系统包括有二维面阵探测器,其所采集数据一维为光谱维,另一维为空间维,所述平面反射镜的旋转、面阵探测器的数据采集、采集图谱的拼接与计算机连接,所述平面反射镜的扫描速度与面阵探测器采集的速度相互匹配。
2.根据权利要求1所述的等离子体三维信息诊断系统,其特征在于:所述诊断系统可同时获取等离子体二维空间分布和一维光谱分布,同时获取多种等离子体的空间分布情况,根据所获得等离子体分布特征即可对当前表面处理效果进行评估。
3.根据权利要求1所述的等离子体三维信息诊断系统,其特征在于:所述Offner成像光谱诊断系统包括Offner成像分光系统,所述Offner成像分光系统由第一球面镜、凸面光栅、第二球面镜构成构成,三个光学元件采用同心圆结构相连接,整个系统结构对称。
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