[实用新型]一种废气集成处理装置有效

专利信息
申请号: 201720500540.5 申请日: 2017-05-08
公开(公告)号: CN206730736U 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 范兰;何长洲;王加东;蔡新浩;万加兵;丰来国 申请(专利权)人: 盐城市兰丰环境工程科技有限公司
主分类号: B01D46/12 分类号: B01D46/12;B01D46/00;B01D53/76;B01D53/00
代理公司: 常州市权航专利代理有限公司32280 代理人: 袁兴隆
地址: 224014 江苏省盐城市盐都区盐*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 废气 集成 处理 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及废气处理领域,尤其涉及一种废气集成处理装置。

背景技术

紫外光处理废气是近年来的热点,原理是通过UV高能紫外线光解设备照射,将有 害气体的分子键进行裂解,分解成小分子碎片,降解生成CO2、H2O等。通常的,待处理废气中还含有一定数量的粉尘。粉尘混合在废气中进行光解处理时会大大降低光解的效率,另外含尘气体通过紫外光处理装置时,粉尘可能附着于紫外光处理装置的表面而造成光解效率进一步的降低。

另外,现有的废气集成处理装置,其都是将粉尘处理和紫外光处理分开处理,经粉尘处理后的废气再通过管道进入紫外光处理装置内,使得整个废气集成处理装置结构复杂,体积较大,占地面积大,不利于节约空间和生产成本。

再者,现有的废气集成处理装置,在通过过滤层对粉尘进行过滤后,会有大量的粉尘停留在过滤层,久而久之,导致过滤层的过滤效果较差,需要定期更换过滤层,影响过滤效率,同时增加了成本。

因此,有必要提供一种新的技术方案。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供一种废气集成处理装置,其废气处理效率高,效果高,结构简单。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种废气集成处理装置,所述处理装置包括塔体、粉尘过滤层、喷淋过滤层、光分解过滤层、加热管和保温层;

所述塔体包括进气口、出气口和废水出口,所述进气口和废水出口均位于塔体的下端,所述出气口位于所述塔体的顶端;

粉尘过滤层、喷淋过滤层和光分解过滤层均位于所述塔体内,并自下而上依次设置;

所述粉尘过滤层包括第一过滤层和第二过滤层,所述第一过滤层为无纺布过滤层,第二过滤层为活性炭纤维过滤层;

所述喷淋过滤层包括喷头及固定喷头的连接板,所述连接板卡合于所述塔体的内壁,所述连接板为镂空状;

所述光分解过滤层为紫外线灯管,所述紫外线灯管为一根,该一根紫外线灯管呈弯曲状均匀分布于塔体的内壁;

所述加热管设置于所述塔体的外侧;

所述保温层位于所述加热管的外侧。

进一步地,所述处理装置还包括弧形反射板,所述弧形反射板位于紫外线灯管的背面,并与所述塔体内壁连接。

进一步地,所述连接板可拆卸地卡合于所述塔体的内壁。

进一步地,所述处理装置还包括用于支撑所述粉尘过滤层的镂空状的支撑板,所述支撑板可拆卸地卡合于所述塔体的内壁。

进一步地,所述连接板与所述支撑板的间距为30-100cm。

进一步地,所述加热管呈弯曲状环绕于所述塔体的外侧。

进一步地,所述保温层为泡沫层。

本实用新型的一种废气集成处理装置,具有如下有益效果:

(1)本实用新型的废气集成处理装置,其通过将粉尘处理、喷淋处理和紫外光处理集成在一起,简化了废气集成处理装置的结构,节约了空间,降低了生产成本。

(2)本实用新型的废气集成处理装置,其通过在废气集成处理装置中增加喷淋装置,其不仅能够处理一部分溶解于水的废气,而且能够对过滤粉尘的过滤层进行清洗,保持过滤层的反复使用,提高了过滤效率和过滤效果。

(3)本实用新型的废气集成处理装置,其结构简单,加工方便,适用于广。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它附图。

图1是本实用新型废气集成处理装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1,图1是本实用新型废气集成处理装置的结构示意图。如图1所示,本实用新型的废气集成处理装置,其包括塔体1、粉尘过滤层、喷淋过滤层和光分解过滤层。

所述塔体1包括进气口11和出气口12,所述进气口11位于塔体的下端,所述出气口12位于所述塔体的顶端。

粉尘过滤层、喷淋过滤层和光分解过滤层均位于所述塔体1内,并自下而上依次设置。

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