[实用新型]一种电路板酸性蚀刻液循环再生回用设备

说明书

技术领域

本实用新型属于电路板蚀刻技术领域，具体涉及一种电路板酸性蚀刻液循环再生回用设备。

背景技术

酸性蚀刻液是一种高含铜、含酸、含氯的废液，现有的废液处理技术均采用的是不可再生的传统提炼处理技术。现有酸性蚀刻废液需转移委外处理：生产硫酸铜、海绵铜等化工产品，容易造成废液运输途中的滴、漏、泄等二次污染。现有酸性蚀刻液生产过程中需要添加大量的盐酸和蚀刻子液，造成生产成本过高。

发明内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种电路板酸性蚀刻液循环再生回用设备。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

一种电路板酸性蚀刻液循环再生回用设备，包括中转循环装置、电解反应槽和氯气回收装置，所述中转循环装置中转储存生产线蚀刻液，所述电解反应槽分隔为电解阳极室和电解阴极室，所述电解阳极室设置有离子膜反应发生室，所述电解反应槽一端连接所述中转循环装置，另一端连接所述氯气回收装置，所述离子膜反应发生室所产生的氯气送至所述氯气回收装置，所述氯气回收装置通过射流装置将氯气回收再生利用。

上述结构中，高含铜废液进入所述离子膜反应发生室在离子膜及电场的作用下废液中氯离子生成氯气，亚铜离子被氧化为亚铜离子，高含铜在电场作用下在阴极板上析出单质铜，从而得到高纯度的阴极铜板，大幅降低废液中的铜含量使得废液再生后循环利用，本电路板酸性蚀刻液循环再生回用设备运行中大部分氯气在所述氯气回收装置的作用下被再生回用，少许氯气及其他气体废气处理装置系统中经强碱喷淋装置与废气发生中和反应，从而实现废气达标排放。

为了进一步提高本实用新型的使用性能，所述电解阴极室侧面安装有排气口、进液口和出液口，所述电解阴极室内部安装有阴极板、阳极板和离子膜。

为了进一步提高本实用新型的使用性能，所述中转循环装置蚀刻液来自生产线，分进液储存和出液储存，所述电解反应槽废液来自所述中转循环装置，在槽内添加添加剂辅助电解反应。

为了进一步提高本实用新型的使用性能，所述电解阳极区提供电荷作用于铜离子反应，所述离子膜反应发生室控制所产生的氯气送至所述氯气回收装置。

为了进一步提高本实用新型的使用性能，所述电解阴极区得到金属阴极铜，可以大幅降低蚀刻液中的铜含量。

为了进一步提高本实用新型的使用性能，所述氯气回收装置通过射流装置将回收氯气从新溶入再生蚀刻液中提高再生蚀刻液的氧化能力。

有益效果在于：本实用新型设备解决了电路板酸性蚀刻生产线所产生的废液循环再生利用，并回收到高纯度的电解阴极铜，大幅降低蚀刻工序的生产成本，优化生产工艺，实现工序清洁生产。

附图说明：

图1是本实用新型所述一种电路板酸性蚀刻循环再生回用设备含废气处理示意图；

图2是本实用新型所述一种电路板酸性蚀刻循环再生回用设备的所述离子膜反应发生室工作原理图；

图3是本实用新型所述一种电路板酸性蚀刻循环再生回用设备的所述电解反应槽结构示意图。

附图标记说明如下：

1、生产线；2、进液口；3、中转循环装置；4、电解反应槽；5、离子膜反应发生室；6、电解阴极室；7、电解阳极室；8、氯气回收装置；9、废气处理装置；601、排气口；602、出液口；603、进液口；604、阳极板；605、离子膜；606、阴极板。

具体实施方式：

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

如图1-图3所示，一种电路板酸性蚀刻液循环再生回用设备，包括中转循环装置3、电解反应槽4和氯气回收装置8，中转循环装置3中转储存生产线1蚀刻液，电解反应槽4分隔为电解阳极室7和电解阴极室6，电解阳极室7设置有离子膜反应发生室5，电解反应槽4一端连接中转循环装置3，另一端连接氯气回收装置8，离子膜反应发生室5所产生的氯气送至氯气回收装置8，氯气回收装置8通过射流装置将氯气回收再生利用。

上述结构中，高含铜废液进入离子膜反应发生室5在离子膜及电场的作用下废液中氯离子生成氯气，亚铜离子被氧化为亚铜离子，高含铜在电场作用下在阴极板606上析出单质铜，从而得到高纯度的阴极铜板，大幅降低废液中的铜含量使得废液再生后循环利用，本电路板酸性蚀刻液循环再生回用设备运行中大部分氯气在氯气回收装置8的作用下被再生回用，少许氯气及其他气体废气处理装置9系统中经强碱喷淋装置与废气发生中和反应，从而实现废气达标排放。