[实用新型]真空吸附机构及裸电芯加工装置

权利要求书

1.一种真空吸附机构，其特征在于，包括吸盘以及为所述吸盘提供吸附力的至少一个真空气源，

所述吸盘具有吸附面，所述吸附面被分成多个吸附区，至少一个所述吸附区的所述吸附面相对另一个所述吸附区的所述吸附面凸出。

2.根据权利要求1所述的真空吸附机构，其特征在于，所述真空气源设置有多个，各所述吸附区与各所述真空气源一一对应，每个所述吸附区分别与一个所述真空气源相连通。

3.根据权利要求1所述的真空吸附机构，其特征在于，还包括至少一个隔离部，所述隔离部与所述吸盘连接，以将所述吸附面分隔成多个所述吸附区。

4.根据权利要求1所述的真空吸附机构，其特征在于，多个所述吸附区在所述吸附面上呈行列式排布。

5.根据权利要求1所述的真空吸附机构，其特征在于，多个所述吸附区中的至少两者的面积不相等。

6.一种裸电芯加工装置，包括用于转移极片的真空吸附机构，其特征在于，所述真空吸附机构为权利要求1-5任一项所述的真空吸附机构。

7.根据权利要求6所述的裸电芯加工装置，其特征在于，所述吸附区的数量至少为四个。

8.根据权利要求7所述的裸电芯加工装置，其特征在于，所述吸附区的数量为四个，四个所述吸附区中的两者分别为第一吸附区，其余两者分别为第二吸附区，

所述第一吸附区的面积大于所述第二吸附区的面积，两个所述第一吸附区间隔排布且均用于吸附所述极片上涂覆有活性物质层的主体区，两个所述第二吸附区间隔排布且均用于吸附所述极片上活性物质层逐渐减薄的过渡区。

9.根据权利要求8所述的裸电芯加工装置，其特征在于，两个所述第一吸附区以及两个所述第二吸附区均沿第一方向平行排布，所述第一吸附区与所述第二吸附区沿第二方向排布，所述第一方向与所述第二方向相垂直，所述第二方向为所述极耳的伸出方向。

10.根据权利要求8所述的裸电芯加工装置，其特征在于，两个所述第二吸附区中的一者包括主吸附区和极耳吸附区，位于所述极耳吸附区的所述吸附面与位于所述主吸附区的所述吸附面设置有高度差，以使所述极耳吸附区能够与所述极耳相贴合。