[实用新型]管式PECVD设备

权利要求书

1.一种管式PECVD设备，其特征在于，包括晶片装载区、炉体、特气柜、真空系统、控制系统以及石墨舟，其中，所述石墨舟用于装卸硅片，所述石墨舟包括卡点，所述卡点包括卡点轴、卡点帽和卡点底座，所述卡点轴安装在卡点底座上，所述卡点帽与卡点轴连接，所述卡点轴与卡点帽、卡点底座之间形成卡点槽，卡点槽的深度为0.5-1mm。

2.如权利要求1所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述卡点槽的深度为0.6-0.8mm。

3.如权利要求2所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述卡点槽的深度为0.7mm。

4.如权利要求1所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述卡点底座的直径为6-15mm。

5.如权利要求4所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述卡点底座的直径为9-12mm。

6.如权利要求1所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述卡点帽的斜面角度为35-45度。

7.如权利要求6所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述卡点帽的斜面角度为40-45度。

8.如权利要求1所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述卡点帽的厚度为1-1.3mm。

9.如权利要求8所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述卡点帽的厚度为1.2-1.3mm。

10.如权利要求1所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述特气柜设有用于通入硅烷的第一气体管路、用于通入氨气的第二气体管路、用于通入三甲基铝的第三气体管路以及用于通入笑气的第四气体管路。