[实用新型]硅钢片检测用基板有效
申请号: | 201720585439.4 | 申请日: | 2017-05-24 |
公开(公告)号: | CN206697512U | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 宋伟;石石;庄洋;刘绪换 | 申请(专利权)人: | 江苏荣马新能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67;H01L21/66 |
代理公司: | 北京精金石专利代理事务所(普通合伙)11470 | 代理人: | 刘晔 |
地址: | 223700 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅钢片 检测 用基板 | ||
1.一种硅钢片检测用基板,包括一个板面(1),板面(1)固定在机架(12)上,其特征在于,所述板面(1)的上表面上开有多个与板面(1)长度方向平行的转轴槽(2),所述转轴槽(2)中固定有与转轴槽(2)长度方向平行的转轴(3),所述转轴(3)上固定有同轴的转辊(4),所述转辊(4)由泡沫制成,转辊(4)由多个均匀分部的同轴的短转辊(41)组成,所述短转辊(41)的顶端高于板面(1)上表面2-4毫米;
所述板面(1)的一侧设有操作斜台(11),该操作斜台(11)的斜面与板面(1)的底面之间的角度在30-60度范围内。
2.根据权利要求1所述的硅钢片检测用基板,其特征在于,所述板面(1)上开有多个与板面(1)长度方向垂直的通槽(6),多个通槽(6)沿板面(1)的中线对称分部,该中线与板面(1)长度方向垂直,所述转轴槽(2)均匀分部在由通槽(6)分割的板面(1)上;
还包括多个与通槽(6)垂直的均匀分部的横架槽(5),所述横架槽(5)贯通板面(1)长度方向的两端;
还包括两个固定在机架(12)长度方向两端的滑槽(9),滑槽(9)与板面(1)平行,且与板面(1)长度方向垂直;
还包括一个滑板(91),滑板(91)的两端与滑槽(9)滑动配合;
所述滑板(91)上表面固定多个顶升装置(92),顶升装置(92)均匀分部在通槽(6)的正下方,顶升装置(92)的顶杆直径小于通槽(6)的宽度;
每个通槽(6)内有一纵向杆(7),该纵向杆(7)的底端固定在顶升装置(92)的顶杆顶端,且纵向杆(7)与板面(1)平行;
每个横架槽(5)内有一横架(8),横架(8)的底端固定于纵向杆(7)上,所述横架(8)的上表面在顶升装置(92)的顶杆收回状态下与板面(1)上表面平行。
3.根据权利要求2所述的硅钢片检测用基板,其特征在于,所述横架(8)上设有第二转动辊,该第二转动辊的顶端在顶升装置(92)的顶杆收回状态下与板面(1)上表面平行。
4.根据权利要求2所述的硅钢片检测用基板,其特征在于,所述顶升装置(92)为电动螺旋升降机,在板面(1)长度方向上平行的电动螺旋升降机由同一个电源控制开闭。
5.根据权利要求2所述的硅钢片检测用基板,其特征在于,所述通槽(6)有两个,横架(8)有三个,所述顶升装置(92)有六个,顶升装置(92)均位于横架(8)与纵向杆(7)的交点正下方。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的