[实用新型]一种结构紧凑的磁控溅射镀膜装置有效
| 申请号： | 201720592305.5 | 申请日： | 2017-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN207121636U | 公开（公告）日： | 2018-03-20 |
| 发明（设计）人： | 赵亚军;刘海辉;张裕华 | 申请（专利权）人： | 北京滨松光子技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100070 北京市丰台*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 结构 紧凑 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种结构紧凑的磁控溅射镀膜装置，包括靶材、阴极盖、阳极屏蔽罩、阴极底座、绝缘支架、固定螺塞、磁铁、绝缘套筒、铜管、螺钉，其特征在于，阴极支架由阴极盖和阴极底座两部分组成，阴极盖直接紧固在阴极底座上；所述靶材直接放置在阴极支架上并采用凹槽设计进行定位和固定；所述阴极盖直接紧固在阴极底座上；所述阴极盖与阴极底座内部有环状高强磁铁；所述绝缘支架与阴极支架之间用螺钉进行固定；所述绝缘支架下面连接铜管通过紧固螺塞进行固定；所述阴极支架外面有绝缘套筒包裹，绝缘套筒外有阳极屏蔽罩包裹。
2.根据权利要求1所述的一种结构紧凑的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述阳极屏蔽罩采用极薄的方案。
3.根据权利要求1所述的一种结构紧凑的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，靶头内部采用风冷的方式。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京滨松光子技术股份有限公司，未经北京滨松光子技术股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720592305.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：药品分析用药片粉碎器
- 下一篇：一种微生物观察上色及载物装置
- 同类专利
- 专利分类
