[实用新型]单片基板湿法制程中腐蚀清洗干燥装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造、太阳能电池制造及液晶制造技术领域，尤其涉及一种单片基板湿法制程中腐蚀清洗干燥装置。

背景技术

随着半导体器件关键尺寸的不断变化及新材料的引入，在半导体器件的制造过程中，对半导体基板表面的洁净度要求越来越苛刻，同时，既要满足基板清洗效率又要尽量减小基板表面刻损和结构损坏变得不那么容易，而现如今，对于基板上的污染物的去除能力及基板表面的刻损和结构损坏程度的要求越来越高，基板上的污染物如颗粒、有机物和金属通常需要用化学反应或物理力作用来克服化学键的引力或物理粘附力从而被去除。

目前基板清洗仍是以湿式清洗为主，湿式清洗通常分为槽式清洗和单片清洗两种方式。槽式清洗能同时处理若干片基板，具有很高的清洗效率。槽式清洗的最大缺点是污染物去除率受到一定的限制，这是因为即使在清洗中使用高纯度的化学试剂与去离子水，从基板上清洗下来的污染物仍然存在于清洗液中，会对基板造成二次污染。为了避免基板被二次污染，单片清洗正逐步取代槽式清洗，单片清洗能有效的防止基板的二次污染，在基板的清洗过程中，新的化学试剂盒去离子水不断的供应到基板表面，而用过的化学试剂与去离子水直接排出并被回收。此外，成品率也是转型到单片清洗的一个重要因素，通过使用单片清洗可以有效提高成品率。与槽式清洗相比，单片清洗具有清洗效果好，清洗液回收率高，能有效防止交叉污染等优势，不过产能相比槽式清洗而言比较低。

实用新型内容

本实用新型提供一种能够在保证清洗效果的同时能够对单片基板进行快速清洗的单片基板湿法制程中腐蚀清洗干燥装置。

为解决上述技术问题，本实用新型提供技术方案如下：

一种单片基板湿法制程中腐蚀清洗干燥装置，包括箱体、上下料装置、基板固定装置、基板喷洗干燥装置、基板旋转装置和药液回收装置，其中：

所述箱体的上端具有开口，下端具有药液排出口；

所述上下料装置位于所述箱体上，所述基板固定装置设置在所述箱体内，所述基板旋转装置位于所述箱体的下方；

所述基板固定装置与基板旋转装置之间采用传动轴连接；

所述基板喷洗干燥装置包括基板正面喷洗干燥装置和基板背面喷洗干燥装置，所述基板正面喷洗干燥装置包括位于基板固定装置上方的第一去离子水喷洗装置、第一热N₂干燥装置、第一药液喷洗装置和刷洗装置，所述基板背面喷洗干燥装置包括位于基板固定装置下方的第二去离子水喷洗装置、第二热N₂干燥装置和第二药液喷洗装置，所述第二去离子水喷洗装置、第二热N₂干燥装置和第二药液喷洗装置的喷嘴均位于所述箱体内；

所述药液回收装置位于所述箱体的下方且与所述箱体的药液排出口之间采用管道连接。

进一步的，所述上下料装置采用搬运机器人手臂进行取放基板或采用电机驱动丝杠导轨对基板进行传送。

进一步的，所述基板固定装置包括用于夹持基板边缘的夹具。

进一步的，所述基板固定装置包括用于对基板的下表面进行真空吸附固定的吸盘。

进一步的，所述基板固定装置包括用于对基板进行悬浮固定的固定盘。

进一步的，所述第一去离子水喷洗装置、第一热N₂干燥装置和第一药液喷洗装置分别包括用于使其喷嘴升降的升降机构和摆动机构，所述刷洗装置包括用于使其刷洗头升降的刷洗头传动机构和使其刷洗头自旋转的刷洗头旋转装置。

进一步的，所述第一去离子水喷洗装置、第一热N₂干燥装置和第一药液喷洗装置的升降机构和摆动机构均采用螺旋传动、同步带传动、齿轮传动、电动直线导轨传动或气动直线导轨传动，所述刷洗头传动机构采用螺旋传动、电动直线导轨传动或气动直线导轨传动，所述刷洗头旋转装置采用同步带传动、齿轮传动或电动传动。

进一步的，所述第二去离子水喷洗装置、第二热N₂干燥装置和第二药液喷洗装置均为固定可调角度装置。

进一步的，所述药液回收装置内设置有多个不相通的空腔，各个空腔分别通过管道与所述药液排出口连接。

进一步的，所述单片基板湿法制程中腐蚀清洗干燥装置还包括基板辅助装置，所述基板辅助装置包括位于基板上方的空气过滤装置和/或基板静电去除装置。

本实用新型具有以下有益效果：