[实用新型]一种转印板

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示领域，尤其涉及一种印刷转印板。

背景技术

现阶段在液晶显示器件(LCD)的制造过程中，需要将显示器件的上下两片玻璃基板分别涂覆PI(Polyimide，聚酰亚胺)取向膜，在液晶显示制造行业内应用较成熟较广泛的是凸版印刷技术。

取向膜的形成分两步：首先在玻璃基板上印刷上PI液，固化形成PI膜；而后对PI膜进行摩擦取向。摩擦取向一般采用摩擦(rubbing)辊裹上摩擦取向(rubbing)布后在玻璃基板上以一定的压力进行摩擦的方法实现。通过摩擦取向布尖端摩擦毛(pile)的摩擦作用，在PI膜的表面形成沟槽，而且PI分子也有按照摩擦取向辊方向排列的倾向，这样PI膜就具有了取向作用，成为取向膜。取向膜使得液晶分子被准确取向，液晶显示器件才有可能按照设计需要发挥旋光作用。

图1所示为玻璃基板PI液转印过程的设备工作示意图，其中转印板106卷曲设置在印刷辊100上，随印刷辊100转动，在转过副辊103时被涂上PI液，转印板106上有转印凸块(pattern)，转印板106上只有有转印凸块的地方才能粘上PI液。玻璃基板101在传导载台102上水平传动，当传动玻璃基板101至印刷辊100下方时，转印板106的一个侧边刚好接触玻璃基板101，然后依靠印刷辊100的转动和传导载台102的水平传动，转印板106将PI液涂布在玻璃基板101上，使PI液在玻璃基板101上形成PI膜107。

转印板106的转印凸块上分布有一定数量的网孔，用来存储PI液，并将存储的PI液转印至玻璃基板101上。

转印板106上设置的各个转印凸块与玻璃基板101上各个液晶屏图形相对应，且其尺寸比液晶屏的显示区大，目的保证玻璃基板101上各个液晶屏图形的显示区能够被PI膜107完全覆盖，将PI膜107印刷图形的边界区域控制在显示区外，以避免边界区域较厚的PI膜区域影响显示区的液晶正常取向。

如图2所示，为现有技术中转印板的平面图。转印板106上有规则排布的多个转印凸块1061。如图3所示，为图2中转印板沿印刷方向的剖面图。转印板106包括基底1060和转印凸块1061，其中转印凸块1061包括转印凸块中间区域10611、转印凸块边界区域10612和转印凸块空隙区10613，分别对应玻璃基板的液晶屏图形显示区、非显示区和空隙区。液晶屏图形区涂覆有PI液，而空隙区没有涂覆PI液。

由于转印板106与玻璃基板101挤压时的速度、压入量的相互影响，特别在每个转印凸块1061的边界区域10612与玻璃基板101接触或分离的过程，受力突然变化导致在印刷方向的边界区域的PI膜区域出现膜厚过大或宽度过宽而影响显示边缘的显示效果，直观表现为检查基板印刷效果时每个液晶屏图形的两条边的PI膜区域存在颜色过深或宽度异常。因此，液晶显示屏的周边取向膜厚度异常会导致液晶分子的取向异常，表现为周边颜色不均的现象，降低了产品品质和良率；对小尺寸产品而言，这种影响更为严重。

实用新型内容

本实用新型提供一种转印板，以克服现有的转印凸块的结构容易造成液晶显示屏的周边取向膜异常导致液晶分子的取向异常，出现周边颜色不均的现象影响产品品质和良率等缺陷。

本实用新型实施例提供一种转印板，包括基底和位于所述基底上的转印凸块，所述转印凸块之间设置间隙区，其中：

所述转印凸块是四棱台体，所述转印凸块的上表面大致平行于所述基底，所述转印凸块的上表面在所述基底上的投影面积小于所述转印凸块的下表面在所述基底上的投影面积，所述转印凸块的侧表面是梯形。

优选地，所述转印凸块的上表面在所述基底上的投影图形是长方形。

优选地，所述转印凸块的侧表面所在的平面与所述基底所在的平面形成的锐角为α，且75°≤α＜90°。

优选地，所述转印凸块在所述基底上的高度为h，且10um≤h≤30um。

优选地，所述转印板上还设置有虚拟转印凸块，所述虚拟转印凸块设置在相邻的两个所述转印凸块之间，所述虚拟转印凸块是四棱台体，所述虚拟转印凸块的上表面面积小于所述转印凸块的上表面面积，所述虚拟转印凸块的上表面在所述基底上的投影面积小于所述虚拟转印凸块的下表面在所述基底上的投影面积，所述虚拟转印凸块的侧表面是梯形。

优选地，所述虚拟转印凸块的上表面在所述基底上的投影图形是长方形。

优选地，所述虚拟转印凸块的侧表面所在的平面与所述基底所在的平面形成的锐角为β，且75°≤β＜90°。