[实用新型]一种具有防伪功能的激光全息图文颗粒砂有效

专利信息
申请号: 201720646874.3 申请日: 2017-06-06
公开(公告)号: CN206983445U 公开(公告)日: 2018-02-09
发明(设计)人: 符维民;朱桂珍;顾一熙 申请(专利权)人: 苏州银河激光科技股份有限公司
主分类号: B32B27/36 分类号: B32B27/36;B32B27/06;B32B3/30;B32B33/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司11246 代理人: 连平
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 防伪 功能 激光 全息 图文 颗粒
【说明书】:

技术领域:

本实用新型涉及防伪颗粒砂技术领域,具体涉及一种具有防伪功能的激光全息图文颗粒砂。

背景技术:

目前,激光全息的产品有激光全息标签、激光全息压印膜,成品是卷材、片材。这类产品的制作过程是:在薄膜上涂布涂成像层,再通过激光照相光刻方式电铸制版,在薄膜上的成像层进行模压或镀铝,最后通过分切或模切制成成品,这种成品是卷筒料或片材料,使用受限制。

申请号为:201110293605.0的中国专利公开了“一种激光全息图文颗粒砂”,其包括包括涂布在PET聚酯电晕薄膜上的成像层及涂布在成像层上的真空镀铝层,所述PET聚酯电晕薄膜上通过激光全息摄影、电铸制版及模压方式生成模压层。由于模压层仅有一层,在模压层制作过程中如果模压层出现瑕疵或损坏,就会导致防伪效果失效,难以起到牢靠稳定的防伪作用。

实用新型内容:

本实用新型的目的就是针对现有技术的不足,提供了一种具有防伪功能的激光全息图文颗粒砂。

本实用新型的技术解决措施如下:

一种具有防伪功能的激光全息图文颗粒砂,其包括由上至下依次设置的上部保护层、PET聚酯电晕薄膜层、成像层、真空镀铝层、模压层、下部保护层,成像层涂布在PET聚酯电晕薄膜层下侧,真空镀铝层涂布在成像层下侧,模压层通过激光全息摄影、电铸制版及模压方式生成,模压层包括上侧平整层、信息层以及下侧平整层,信息层两侧均设置有凹凸不平状的激光全息图案,上侧平整层、下侧平整层上设置有与凹凸不平状的激光全息图案对应的容纳部位。

PET聚酯电晕薄膜层的厚度为30-50微米,其呈透明状态。

成像层的厚度为30-40微米。

激光全息图案间歇设置,上侧的激光全息图案与下侧的激光全息图案形状相同。

激光全息图文颗粒砂的尺寸为0.1-0.25mm,激光全息图文颗粒砂的每粒图像文字均为相同的。

上部保护层和下部保护层的厚度相同,且采用相同的保护材料制成。

本实用新型的有益效果在于:这种激光全息图文颗粒砂可以把激光全息的运用进一步扩大,从片状和条状变颗粒砂,用在造纸防伪、艺术雕塑防伪、服装装饰、建筑墙面等方面,扩大了产品使用范围,并且能够很快被消费者认知,增加伪造的难度,更具防伪实用性。其在通过两层凹凸不平状的激光全息图案确保了防伪的准确性,同时,信息层上侧和下侧分别设置有上侧平整层、下侧平整层,上侧平整层、下侧平整层上设置有与凹凸不平状的激光全息图案对应的容纳部位,以确保模压层平整无凹凸不平部分。

附图说明:

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式:

为了使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做出详细的说明。

如图1所示,一种具有防伪功能的激光全息图文颗粒砂,其包括由上至下依次设置的上部保护层1、PET聚酯电晕薄膜层2、成像层3、真空镀铝层4、模压层、下部保护层8,成像层3涂布在PET聚酯电晕薄膜层2下侧,真空镀铝层 4涂布在成像层3下侧,模压层通过激光全息摄影、电铸制版及模压方式生成,模压层包括上侧平整层5、信息层6以及下侧平整层7,信息层6两侧均设置有凹凸不平状的激光全息图案,上侧平整层5、下侧平整层7上设置有与凹凸不平状的激光全息图案对应的容纳部位。

PET聚酯电晕薄膜层2的厚度为30-50微米,其呈透明状态。

成像层3的厚度为30-40微米。

激光全息图案间歇设置,上侧的激光全息图案与下侧的激光全息图案形状相同。

激光全息图文颗粒砂的尺寸为0.1-0.25mm,激光全息图文颗粒砂的每粒图像文字均为相同的。

上部保护层1和下部保护层8的厚度相同,且采用相同的保护材料制成。

激光全息图文颗粒砂通过如下方法制得:在PET聚酯电晕薄膜层2表面涂布成像层3,再真空蒸镀产生真空镀铝层4,然后利用激光全息的制作原理和特点,即用激光进行全息摄影,转印全息模压在薄膜上,生成模压层,再分条拉丝裁切成颗粒砂,所述的激光全息图文颗粒砂小于等于0.3mm。

所述实施例用以例示性说明本实用新型,而非用于限制本实用新型。任何本领域技术人员均可在不违背本实用新型的精神及范畴下,对所述实施例进行修改,因此本实用新型的权利保护范围,应如本实用新型的权利要求所列。

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