[实用新型]高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构有效
| 申请号： | 201720650172.2 | 申请日： | 2017-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN206849764U | 公开（公告）日： | 2018-01-05 |
| 发明（设计）人： | 刘志远;李昊旻;王子寒;耿英三;王建华 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所61215 | 代理人： | 何会侠 |
| 地址： | 710049*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 额定电流 纵向 磁场 真空 灭弧室触头 结构 | ||
1.一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构，其特征在于：包括布置于真空灭弧室中结构相同的阳极触头系统(1)和阴极触头系统(2)，所述阳极触头系统(1)包括导电杆(3)、U型铁心(4)和触头片(5)；导电杆(3)一端穿过U型铁心(4)开口处，并与触头片(5)连接；触头片(5)的中部开有两个形状和位置对称的非直线通槽(9)，非直线通槽(9)将触头片(5)分为位于两个非直线通槽(9)间的导流区域(6)和位于两个非直线通槽(9)端部外侧的燃弧区域(7)，所述导流区域(6)和燃弧区域(7)之间通过两个非直线通槽(9)端部间的导电桥(8)进行电连接；U型铁心(4)设置在触头片(5)的背部，且位于燃弧区域(7)之内；所述阳极触头系统(1)和阴极触头系统(2)相对布置，触头片(5)正面相对，且使U型铁心(4)的开口方向呈错开180°配置。
2.根据权利要求1所述的一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述导流区域(6)为圆形、椭圆形或跑道形。
3.根据权利要求1所述的一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述U型铁心(4)采用一端开口的导磁性材料薄片(10)堆叠而成。
4.根据权利要求1所述的一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述导电杆(3)的一端与触头片(5)焊接。
5.根据权利要求1所述的一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述非直线通槽(9)开槽宽度的典型值小于2mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学，未经西安交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720650172.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
