[实用新型]UVLED网板曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种曝光机台，具体涉及一种UVLED网板曝光机。

背景技术

网板是电路板图形化的必要工具之一，网板是在曝光机台的曝光显影过程中而制成，首先，网板表面会先被涂上感光乳剂而构成感光层，接着再将网板置放于形成有电路布线图案的底片上方，而后曝光机台的光源会经由所述底片对网板提供紫外光线，以将底片的电路布 线图案映像到网板的感光层，此时，网板的感光层受到紫外光线曝照部分的化学性质会产生变化，接着只要将网板感光层未受到紫外光线曝照的部分去除后，网板上就会形成对应于底片的电路布线图案，而供后续电路板图形化的使用。

随着电路板微型化的发展趋势下，用于图形化电路板的网板被要求的精度亦越来越高， 网板上形成的电路布线图案线条粗细不均匀，是一种不被允许的情况，因为此种情况的发生，会对后续图形化的电路板的电性功能造成无法预期的影响。

而现有的网板曝光机都是采用紫外光源，而光照不均匀会导致局部温度增高，造成底片在曝光过程中受热变形，如此，就会造成网板上形成的电路布线图案线条粗细不均匀，甚至使网板上形成的电路布线图案非如预期。

实用新型内容

为了克服以上的技术不足，本实用新型提供一种UVLED网板曝光机。

本实用新型提供一种UVLED网板曝光机，其包括：

机台腔体，内设有光源组件，所述光源组件可滑移设置在所述机台腔体内，所述光源组件的上端设置出光镜面，所述出光镜面用于放置形成有电路布线图案的底片，待曝光的网板则可放置于该底片上方，所述光源组件由若干阵列设置的LED组成；

机台上盖，一端枢接所述机台腔体，所述机台上盖可枢转而贴合所述机台腔体，以形成收容所述网板与所述底片的曝光空间；

吸真空装置，可抽取上述曝光空间内的气体，并使所述机台上盖紧密贴合所述机台腔体。

所述光源组件包括移动架，所述LED阵列设置该移动架上方，所述移动架两侧与所述机台腔体内的框架构成滑移配合。

在所述框架的两侧设置导轨，所述移动架两侧对应设置相适配的滑块，所述滑块与所述导轨构成滑移配合。

在滑块滑移方向的前后两端设有定位机构，在移动架的任意一侧设有与该定位机构相适配的指示件，所述定位机构为U型红外传感器，所述移动架在前后滑移时，该指示件阻挡所述定位机构实现位置指示。

所述移动架底部设有前后贯通的通孔，在所述通孔内间隔分布若干散热鳍片，所述散热鳍片平行所述移动架滑移方向设置，在所述通孔的前后任意一侧设有散热机构。

所述移动架底部设有传动机构。

所述传动机构包括设置在机台腔体前后两端的传动轮，与任意一个传动轮联动配合的驱动机构，连接前后两个传动轮的传送带，以及设置在移动架底部的固定机构，所述固定机构的前后端分别与传送带固定连接。

所述传固定机构前后端设有啮合机构，所述传送带设有与该啮合机构相适配的啮齿。

设置在前后两端的啮合机构之间设有位置调节机构。

所述机台腔体前端设有锁紧机构，所述机台上盖前端设有与锁紧机构卡扣配合的卡扣。

本实用新型的有益效果：通过采用LED阵列设置，并将该LED阵列进行滑移设置，来实现光源的照射均匀，且可避免光照不均匀可能导致的曝光图案线条宽度不一致，影响使用。

附图说明

图1是本实用新型的立体示意图。

图2是本实用新型的内部示意图。

图3是图1中A处的放大示意图。

图4是图1中B处的放大示意图。

图5是光源组件的俯视图。

图6是光源组件的立体示意图。

图7是光源组件的侧视图。

图8是光源组件的的主视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型实施例作进一步说明：

如图所示，本实用新型提供一种UVLED网板曝光机，其包括：

机台腔体1，所述机台腔体1包括框架以及罩设在框架外侧的罩壳，在罩壳内设有光源组件4，所述光源组件4可滑移设置在所述机台腔体内，所述光源组件4的上端设置出光镜面3，即该框架的最高的面设置为玻璃，作为出光镜面3使用，所述出光镜面3用于放置形成有电路布线图案的底片，待曝光的网板则可放置于该底片上方，所述光源组件由若干阵列设置的LED7组成，所述LED的波段在360-420nm范围之内，且在各颗LED上设置透镜，所述透镜的直径为5-30mm，单颗光源的功率在100-300mw之间，而经过透镜之后的准直度为0.5-30°；