[实用新型]一种电容去离子装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种污水处理装置，尤其是涉及一种电容去离子装置。

背景技术

电容去离子脱盐系统在工作过程中，原水在阴、阳极之间流动时受到电场的作用，水中的带电粒子分别向带相反电荷的电极迁移，被该电极吸附并储存在双电层内，最终实现与水的分离，获得被净化/淡化的出水。当电极吸附达到饱和以后停止工作，此时，将直流电源去掉，并将正负电极短接，由于直流电场的消失，储存在双电层中的离子和吸附在电极表面的带电粒子又被释放到通道中，随水流排出，电极也由此得到再生。因此，再生的用水量及再生水的利用效率对电吸附系统的产水率至关重要。

目前常用的四种再生方法及流程如下：

一级再生工艺，即仅采用原水对脱盐设备进行反洗的再生方法，反洗出水直接外排，特点是反洗水量小，再生效果一般，产水率一般； (原水即需要处理的水源，再生过程中所使用的用来冲洗脱盐设备的水都称之为反洗水，因此反洗用水可包括原水、中水以及浓水，反洗时的出水都称之为反洗出水或再生出水)。

二级再生工艺，即采用中水反洗+原水反洗，中水反洗时出水较浓直接外排，原水反洗时出水浓度有所降低，此出水排到中水箱，作为下一周期中水反洗时反洗水使用，特点是反洗水量一般，反洗效果较好，产水率较高。

三级再生工艺，采用浓水反洗+中水反洗+原水反洗，浓水反洗时出水直接外排、然后是中水反洗的出水排到浓水箱，作为下一周期的浓水反洗时的水来使用、原水反洗时出水排到中水箱，特点是反洗水量大，反洗效果好，产水率高，工艺较复杂。

四级再生工艺，采用浓水反洗+中水反洗+原水反洗+原水预排，前三个工艺流程与之前的相同，原水预排就是原水反洗然后再返回到原水箱，反洗水量更大，反洗效果最好，产水率也是最高，但是工艺更加较复杂。

一般为了保证再生效果，通常需要3级以上反洗，每个再生工艺节点均需泵、阀门、水池等，工艺复杂、投资大、控制点多，不易操作，且产水率一般只能达到75％左右。

实用新型内容

本实用新型设计了一种电容去离子装置，其解决的技术问题是传统的电容去离子脱盐装置的再生工艺通常采用多级再生法，虽然也能满足一般的处理系统的要求，但是整个脱盐系统就显得很复杂，控制节点增加的同时带来投资成本的上升，尤其是会进一步增加设备的占地面积。

为了解决上述存在的技术问题，本实用新型采用了以下方案：

一种电容去离子装置，包括脱盐装置管体(1)，在脱盐装置管体 (1)的一端设有含金属离子污水的进水口(11)，在脱盐装置管体(1) 内部设有一布水器(141)，布水器(141)一端封闭，该封闭端靠近进水口(11)，其另一端设有出水口(12)，布水器(141)的表面均匀设有复数个进水孔(141)；所述布水器(141)串接多个平行设置的电极片(15)；含金属离子的污水依次通过进水口(11)、脱盐装置管体(1)与其最近的电极片(15)之间的垂直水道(16)、脱盐装置管体(1)与多个电极片(15)之间的水平水道(17)、相邻两个电极片(15)之间的垂直水道、布水器(141)的进水孔(141)以及布水器(141)的出水口(12)，其特征在于：在脱盐装置管体(1)上还设有直排口(13)，其将脱盐装置管体(1)所储存浓度高的污水直接放空，所述浓度高的污水为电极片(15)充分放电后在脱盐装置管体(1)形成的污水。

进一步，所述直排口(13)设有阀门(131)。

进一步，所述多个电极片(15)除了最外端的两个为单面电极，其他的电极片(15)都为双面电极。

一种电容去离子装置的再生方法，包括以下步骤：

步骤1、电容去离子装置通电吸附污水中的金属离子完成后，通过增加短接放电时间使得金属离子与电极片进行充分分离，形成含金属离子浓度高的浓水；

步骤2、将电容去离子装置中的浓水直接放空。

进一步，还包括步骤3、对电容去离子装置进行补水。

进一步，步骤3中的补水来源可以来自电容去离子装置处理后的污水。

进一步，步骤1中的通电吸附时间＝短接放电静置时间+放空的时间+补水的时间。

该电容去离子装置与现有技术相比具有以下有益效果：

(1)本实用新型利用增加放电静置时间和使脱盐设备放空的方法来简化再生流程，并提高再生效果的方法，尤其是利用延长放电静置时间的方法使吸附饱和之后的电容去离子设备充分放电，然后把设备内所存储的浓水直接放空外排，能够在提高设备再生效果的同时，还能够进一步提高系统的产水率。