[实用新型]一种天麻清洗设备

权利要求书

1.一种天麻清洗设备，其特征在于：包括机架(1)和分别设于机架(1)上的第一清洗段(A)、浸泡段(B)和第二清洗段(C)，所述第一清洗段(A)包括传送料槽(2)、传送辊(3)、传送带(4)和第一清洗机构(5)，所述传送料槽(2)呈一定角度倾斜的装设于机架(1)上，所述传送辊(3)装设于传送料槽(2)的两端，且传送辊(3)通过设置于其一侧的驱动电机(6)驱动，所述传送带(4)套设于所述传送辊(3)上，且所述传送带(4)呈镂空设计，传送带(4)上间隔均匀的设有多个提料卡板(4a)，所述第一清洗机构(5)装设于传送料槽(2)中部，且所述第一清洗机构(5)下方的传送料槽(2)上设有翻料辊(7)，且所述传送带(4)套设于翻料辊(7)上形成凸起(8)，所述传送料槽(2)的两端分别设有进料斗(9)和出料口(10)；所述浸泡段(B)和第二清洗段(C)分别设于装设于机架(1)上且位于所述第一清洗段(A)下游的浸泡槽(11)内，所述浸泡段(B)和第二清洗段(C)包括相互连接设于浸泡槽(11)内的传送辊(3)和传送带(4)，所述浸泡段(B)包括设置于传送带(4)下方的多排鼓风管(12)，所述第二清洗段(C)包括设置于浸泡槽(11)上的第二清洗机构(13)。

2.如权利要求1所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述第一清洗段(A)、浸泡段(B)和第二清洗段(C)的传送辊(3)和传送带(4)结构相同，且均通过设置于传送辊(3)一侧的驱动电机(6)驱动。

3.如权利要求1所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述传送料槽(2)包括上料段(2a)和提料清洗段(2b)，且所述上料段(2a)呈水平设置，所述提料清洗段(2b)呈上述倾斜式设置，所述上料段(2a)和提料清洗段(2b) 的两端及上料段(2a)和提料清洗段(2b)的连接处分别设有所述传送辊(3)，且所述提料清洗段(2b)上端的传送辊(3)通过设置其一侧的驱动电机(6)驱动旋转。

4.如权利要求3所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述翻料辊(7)装设于提料清洗段(2b)上，且所述翻料辊(7)凸出于所述提料清洗段(2b)两端传送辊(3)的连接直线上。

5.如权利要求3所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述进料斗(9)和出料口(10)分别设于上料段(2a)和提料清洗段(2b)的端部，所述第一清洗机构(5)包括装设于提料清洗段(2b)中部的第一清洗罩(5a)和装设于第一清洗罩(5a)内壁上的多个第一清洗喷头(5b)。

6.如权利要求3所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述提料清洗段(2b)的底部设有疏通管道(14)。

7.如权利要求3所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述提料清洗段(2b)的倾斜角度为30°～45°。

8.如权利要求1所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述提料卡板(4a)包括固定装设于传送带(4)上的固定板(4b)和套设于固定板(4b)外的保护层(4c)。

9.如权利要求1所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述第二清洗段(C)的传送带(4)的高度高于所述浸泡段(B)的传送带(4)高度，且所述浸泡段(B)处传送带(4)下方设置的鼓风管(12)与装设于浸泡槽(11)上的鼓风机(15)连接。

10.如权利要求1所述的一种天麻清洗设备，其特征在于：所述第二清洗机构(13)包括设置于浸泡槽(11)上的第二清洗罩(13a)和设置于第二清洗罩(13a)内的多个第二清洗喷头(13b)。