[实用新型]一种液晶玻璃蚀刻机

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶玻璃加工技术领域，尤其是一种液晶玻璃蚀刻机。

背景技术

现有技术一般采用浸渍法和喷淋发来加工制造液晶显示器的玻璃基板，其中，浸渍法由于设备简单且成本低的优点而被广泛地应用于液晶显示器的玻璃基板加工制造。

在利用浸渍法加工制造液晶显示器的玻璃基板的过程中，蚀刻剂在箱体内流动并蚀刻玻璃基板，其中，蚀刻剂可以从箱体的顶部淋下，也可以从箱体的底部输入；对于蚀刻剂从箱体底部输入的结构形式而言，由于蚀刻剂通过一个或者多个入口直接通入至箱体的内部，蚀刻剂快速地流动并容易在箱体的内部产生涡流，进而造成箱体内部不同位置的流速不一样以致于影响同一批次玻璃基板的反应效率以及蚀刻质量的一致性。

另外，现有技术中蚀刻剂的酸碱度只能在制备时进行调节，调酸不方便。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种保持蚀刻质量的一致性，调酸方便的液晶玻璃蚀刻机。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种液晶玻璃蚀刻机，包括暂存槽、蚀刻槽、清洗槽和热水清洗槽，所述暂存槽连接蚀刻槽，蚀刻槽连接清洗槽，清洗槽连接热水清洗槽，蚀刻槽包括槽体、蚀刻腔室、缓冲腔室、导流板、固定支撑架和蚀刻管，槽体的上部设有蚀刻腔室，下部设有缓冲腔室，蚀刻腔室与缓冲腔室相互连通，缓冲腔室的底部连通进液管，进液管连通调药管，调药管连接调药槽；缓冲腔室的顶部的槽体内侧设有搭肩，搭肩上安装导流板，导流板上方的蚀刻腔室内设有固定支撑架，固定支撑架的底部设有卡槽；固定支撑架的四周和下方设有蚀刻管，蚀刻管上开有数个圆孔。

作为本实用新型的进一步方案：所述卡槽设有数个。

作为本实用新型的进一步方案：所述固定支撑架上方设有蚀刻管。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该液晶玻璃蚀刻机集蚀刻与清洗一体，并且蚀刻槽的下部设有缓冲腔室，能够降低蚀刻液的流速，配合导流板能够防止蚀刻液产生涡流保持蚀刻质量的一致性；连通进液管的调药槽可方便调控HF的酸度，随时加用，值得大力推广。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的蚀刻槽的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，本实用新型实施例中，一种液晶玻璃蚀刻机，包括暂存槽1、蚀刻槽2、清洗槽3和热水清洗槽4，所述暂存槽1连接蚀刻槽2，蚀刻槽2连接清洗槽3，清洗槽3连接热水清洗槽4，蚀刻槽2包括槽体5、蚀刻腔室6、缓冲腔室7、导流板8、固定支撑架9和蚀刻管10，槽体5的上部设有蚀刻腔室6，下部设有缓冲腔室7，蚀刻腔室6与缓冲腔室7相互连通，缓冲腔室7的底部连通进液管11，进液管11连通调药管12，调药管12连接调药槽13；缓冲腔室7的顶部的槽体5内侧设有搭肩14，搭肩14上安装导流板8，导流板8上方的蚀刻腔室6内设有固定支撑架9，固定支撑架9的底部设有卡槽，卡槽用于固定玻璃基板21。固定支撑架9的四周和下方设有蚀刻管10，蚀刻管10上开有数个圆孔。

上述，卡槽设有数个。

上述，固定支撑架9上方设有蚀刻管10。

本实用新型的结构特点及其工作原理：本实用新型集蚀刻与清洗一体，并且蚀刻槽2的下部设有缓冲腔室7，能够降低蚀刻液的流速，配合导流板8能够防止蚀刻液产生涡流保持蚀刻质量的一致性。连通进液管11的调药槽13可方便调控HF的酸度，随时加用，蚀刻槽2内设有蚀刻管10，放出均匀气泡，及时清理HF酸蚀刻反应产物。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。