[实用新型]一种玻璃生产线上片机双工位回转送片台有效

专利信息
申请号: 201720737753.X 申请日: 2017-06-23
公开(公告)号: CN207001670U 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 余庆宇;严海波;赵春宇;余振宇;姜燕 申请(专利权)人: 芜湖金三氏数控科技有限公司
主分类号: B65G47/80 分类号: B65G47/80;B65G49/06
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司34107 代理人: 曹政
地址: 241100 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 玻璃 生产线 上片 双工 回转 送片台
【说明书】:

技术领域

发明属于玻璃加工设备技术领域,尤其涉及一种玻璃生产线上片机双工位回转送片台。

背景技术

在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术至少存在以下问题:在玻璃加工过程中,一套产品支撑架只能对应一种玻璃,当需要加工不同种玻璃时,要对产品支撑架进行调整,费事费力,工作效率低。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种能够高效地切换不同种玻璃加工,减少上架和校准时间的玻璃生产线上片机双工位回转送片台。

为了解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:一种玻璃生产线上片机双工位回转送片台,具有:

支撑台;

回转支撑内圈,其固定设置在所述支撑台上,所述回转支撑为圆环形,圆环内部设有内齿轮;

回转支撑外圈,其套装在所述回转支撑内圈上并能在回转支撑内圈上转动;

回转台,其放置在所述支撑台上;

旋转减速电机,固定设置在所述回转台上;所述旋转减速电机与所述回转支撑外圈固定连接;

回转主动齿轮,与所述旋转减速电机的转轴连接;所述回转主动齿轮与所述回转支撑的内齿轮啮合;

产品支撑架,共有两个,分别设置在所述回转支撑两端。

所述输送轨道上设有至少三个平行的输送辊,所述输送辊上设有输送轮。

所述机械吸盘臂包括第一端可转动的臂体,所述臂体第一端上设有吸盘架,所述吸盘架上设有吸盘。

当所述机械吸盘臂转动到输送轨道位置时,所述臂体和吸盘架位于相邻的两个输送辊之间,所述臂体和吸盘架能够转动到所述输送辊下方。

所述两个产品支撑架分别对应不同型号的产品。

上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果,纵向双份输送台由以高精度减速电机通过正反转,实现玻璃或板料根据控制系统可分别向两个方向输送,以供给下道工序产品;1)上片速度由12秒/片提升至8秒/片;2) 上片后可直接向两边分流;3)更换玻璃产品时间仅为双工位回转送片台的旋转时间,减少了上架和校准的时间。

附图说明

图1为本发明实施例中提供的玻璃生产线上片机双工位回转送片台的结构示意图;

图2为图1的A-A剖视图;

图3为图1的俯视图;

上述图中的标记均为:1、支撑台,12、回转支撑内圈,13、回转支撑外圈,2、回转台,21、旋转减速电机,22、回转主动齿轮,3、产品支撑架,4、机械吸盘臂,5、输送轨道。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

参见图1-3,一种玻璃生产线上片机双工位回转送片台,具有:

支撑台;

回转支撑内圈,其固定设置在支撑台上,回转支撑为圆环形,圆环内部设有内齿轮;

回转支撑外圈,其套装在回转支撑内圈上并能在回转支撑内圈上转动;

回转台,其放置在支撑台上;

旋转减速电机,固定设置在回转台上;旋转减速电机与回转支撑外圈固定连接;

回转主动齿轮,与旋转减速电机的转轴连接;回转主动齿轮与回转支撑的内齿轮啮合;

产品支撑架,共有两个,分别设置在回转支撑两端。

输送轨道上设有至少三个平行的输送辊,输送辊上设有输送轮。

机械吸盘臂包括第一端可转动的臂体,臂体第一端上设有吸盘架,吸盘架上设有吸盘。

当机械吸盘臂转动到输送轨道位置时,臂体和吸盘架位于相邻的两个输送辊之间,臂体和吸盘架能够转动到输送辊下方。使玻璃能够脱离吸盘转移到输送轨道上。

两个产品支撑架分别对应不同型号的产品。

由纵向双分输送台、高精度机械吸盘臂、双工位回转送片台以及玻璃产品支持架组成。

纵向双份输送台由以高精度减速电机通过正反转,实现玻璃或板料根据控制系统可分别向两个方向输送,以供给下道工序产品。

机械吸盘臂由一个高精度伺服电机连接一个RV精密减速机控制摆动速度和角度,再由真空泵及其吸盘组件控制抓取和松开动作。

由一个减速电机通过一个大回转支撑控制两个工位之间的切换。

上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果,1)上片速度由 12秒/片提升至8秒/片;2)上片后可直接向两边分流;3)更换玻璃产品时间仅为双工位回转送片台的旋转时间,减少了上架和校准的时间。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。

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