[实用新型]带有零速保护结构的五辊机装置有效

专利信息
申请号: 201720738435.5 申请日: 2017-06-22
公开(公告)号: CN207003052U 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 黄江浩;崔倩文;钟志锋;何碧超;梁立委 申请(专利权)人: 广东天安新材料股份有限公司
主分类号: D06C15/02 分类号: D06C15/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 韩建伟,谢湘宁
地址: 528000 广东省佛山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 有零 保护 结构 五辊机 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及五辊机装置的技术领域,具体而言,涉及一种带有零速保护结构的五辊机装置。

背景技术

五辊机装置作为皮革加工的重要设备其作用非常重要。五辊机包括加工精度非常高的压辊,当其中一个压辊突然出现故障而不转动的时候,其余的压辊在继续转动,这就会造成转动的压辊和停止转动的压辊之间出现相对运动,相对运动的压辊之间就会出现损坏,这使得五辊机装置的成本大大地增加。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种带有零速保护结构的五辊机装置,以解决现有技术中的压辊突然停止转动时而出现的磨损的问题。

为了实现上述目的,本实用新型提供了一种带有零速保护结构的五辊机装置,包括:五辊机主体,五辊机主体包括依次配合的多个压辊,每个压辊具有工作位置和远离相邻的压辊的远离位置;驱动结构,驱动结构与五辊机主体相连,驱动结构用于驱动压辊在工作位置和远离位置之间移动;控制结构,控制结构包括零速检测器和控制主体,驱动结构和零速检测器均与控制主体相连,零速检测器与多个压辊相连接以检测各压辊的转速,当多个压辊中一个压辊的转速为零时,驱动结构驱动各压辊移动至远离位置。

进一步地,五辊机主体包括第一压辊,驱动结构包括第一驱动电机,第一驱动电机和第一压辊相连以驱动第一压辊在工作位置和远离位置之间移动。

进一步地,第一压辊的工作位置至第一压辊的远离位置为X轴的负方向。

进一步地,五辊机主体包括第二压辊,驱动结构包括第二驱动电机,第二驱动电机和第二压辊相连以驱动第二压辊在工作位置和远离位置之间移动。

进一步地,第二压辊的工作位置至第二压辊的远离位置为Y轴的正方向。

进一步地,五辊机主体包括第三压辊,驱动结构包括第三驱动电机,第三驱动电机和第三压辊相连以驱动第三压辊在工作位置和远离位置之间移动。

进一步地,第三压辊的工作位置至第三压辊的远离位置为Y轴的正方向。

进一步地,五辊机主体包括第四压辊,驱动结构包括第四驱动电机,第四驱动电机和第四压辊相连以驱动第四压辊在工作位置和远离位置之间移动。

进一步地,第四压辊的工作位置至第四压辊的远离位置为X轴的正方向或X轴的负方向。

进一步地,五辊机主体包括第五压辊,驱动结构包括第五驱动电机,第五驱动电机和第五压辊相连以驱动第五压辊在工作位置和远离位置之间移动。

应用本实用新型的技术方案,当五辊机装置工作时,零速检测器检测到其中一个或多个压辊突然转速为零时,零速检测器将信号传递至控制主体,控制主体将各压辊相互远离的指令传送给驱动结构,驱动结构驱动各个压辊相互远离,这样不会出现由于压辊之间存在相对运动而导致的压辊损坏的问题。本实用新型的技术方案有效地解决了现有技术中的压辊突然停止转动时而出现的磨损的问题。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:

图1示出了根据本实用新型的带有零速保护结构的五辊机装置的实施例的结构示意图。

其中,上述附图包括以下附图标记:

10、五辊机主体;11、第一压辊;12、第二压辊;13、第三压辊;14、第四压辊;15、第五压辊;20、驱动结构;30、控制结构。

具体实施方式

需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

应该指出,以下详细说明都是例示性的,旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明,本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而,示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位),并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

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