[实用新型]一种用于低温液氢泵的密封结构有效
申请号: | 201720739603.2 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN207093763U | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 韦达 | 申请(专利权)人: | 韦达 |
主分类号: | F16J15/16 | 分类号: | F16J15/16;F16J15/40 |
代理公司: | 浙江杭知桥律师事务所33256 | 代理人: | 王梨华,陈丽霞 |
地址: | 310000 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 低温 液氢 密封 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及密封领域,尤其涉及了一种用于低温液氢泵的密封结构。
背景技术
现有的泵体密封结构中,在设计时必须考虑到其工作环境。在压力高、温度低的环境中所采用的阀门对其阀杆的密封结构有很高的要求,其中最重要的是既有抗压能力又能保持稳定的密封效果,在现有技术中,阀门阀杆部位的密封件,大部分采用Y形橡胶圈9配合“O”型密封圈10搭配使用,这种密封件中,由于提供“Y”型橡胶圈9撑开力的“O”型密封圈10只是用橡胶材料制成,其抗压能力明显不足,针对高压特别是70MPa以上时,一方面“O“型密封圈10容易挤出、变形导致窜漏,此外,液氢泵密封效果差会造成氢气外漏发生爆炸带来安全问题。
发明内容
本实用新型针对现有技术中出密封效果差、适应性差的问题,提供了一种用于低温液氢泵的密封结构。
为了解决上述技术问题,本实用新型通过下述技术方案得以解决:
一种用于低温液氢泵的密封结构,包括套设在活塞杆外部的密封结构,密封结构包括密封轴套,密封轴套上开设有至少一个充气孔,密封轴套左端从左向右依次设有密封组件一、密封组件二,密封轴套的右端设有密封组件二。
作为优选,密封组件一包括从左向右依次连接的支承环、硬槽间垫、压环、蝶形弹簧,支承环与硬槽间垫间设有两个密封环及一个间垫,间垫位于两密环之间,硬槽间垫与压环间设有至少一个V型密封圈。
作为优选,密封组件二包括从左向右依次连接的密封室环、密封圈座、压紧环、导向套,密封圈座至少设有两个,密封室环与密封圈座间、密封圈座与密封圈座间、密封圈座与导向套间均设有压紧圈、密封圈,压紧环与导向套间、密封轴套与密封室环间均设有垫圈。
作为优选,密封轴套右端的密封组件二的端部连接有花键螺母。
作为优选,密封轴套左端的密封组件一与密封组件二间设有蝶形弹簧。
作为优选,硬槽间垫与V型密封圈间设有垫圈、压垫。
作为优选,支承环上设有垫圈。
导向套上设有环形凹槽,环形凹槽内设有O型圈。
本实用新型采用了以上方案具有以下有益效果:由多个小部件按一定顺序进行连接并套设在活塞杆上,并通过密封轴套的充气孔向内部充入氮气,通过高压、常温的氮气进行密封,密封效果好,抗低温、抗高压。
附图说明
图1为本实用新型的爆炸图。
图2为密封组件一的爆炸图。
图3为密封组件二的爆炸图。
图4为密封轴套的结构示意图。
图5为导向套的结构示意图。
附图中各数字标号所指代的部位名称如下:1—密封轴套、1a—充气孔、2—密封组件一、3—密封组件二、4—蝶形弹簧、5—花键螺母、6—支承环、7—硬槽间垫、8—压垫、9—压环、10—硬槽间垫、11—密封环、12—垫圈、13—V型密封圈、14—密封圈、15—密封室环、16—导向套、16a—环形凹槽、16b—O型圈、17—压紧环、18—密封圈座、19—压紧圈。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步详细描述。
实施例
一种用于低温液氢泵的密封结构,如图1-图5所示,包括套设在活塞杆外部的密封结构,密封结构包括密封轴套1,密封轴套1上开设有至少一个充气孔1a,密封轴套1左端从左向右依次设有密封组件一2、密封组件二3,密封轴套1的右端设有密封组件二3。
密封组件一2包括从左向右依次连接的支承环6、硬槽间垫7、压环9、蝶形弹簧4,支承环6与硬槽间垫7间设有两个密封环11及一个间垫10,间垫10位于两密环之间,硬槽间垫7与压环9间设有至少一个V型密封圈13。
密封组件二3包括从左向右依次连接的密封室环15、密封圈座18、压紧环17、导向套16,密封圈座18至少设有两个,密封室环15与密封圈座18间、密封圈座18与密封圈座18间、密封圈座18与导向套16间均设有压紧圈19、密封圈14,压紧环17与导向套16间、密封轴套1与密封室环15间均设有垫圈12。
密封轴套1右端的密封组件二3的端部连接有花键螺母5。
密封轴套1左端的密封组件一2与密封组件二3间设有蝶形弹簧4。
硬槽间垫7与V型密封圈13间设有垫圈12、压垫8。
支承环6上设有垫圈12。
导向套16上设有环形凹槽16a,环形凹槽16a内设有O型圈16b。
总之,以上仅为本实用新型的较佳实施例,凡依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与修饰,皆应属本实用新型专利的涵盖范围。
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