[实用新型]光罩有效
申请号: | 201720768783.7 | 申请日: | 2017-06-28 |
公开(公告)号: | CN207164461U | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 谢生林;王毅 | 申请(专利权)人: | 扬州扬杰电子科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 扬州市苏为知识产权代理事务所(普通合伙)32283 | 代理人: | 周全 |
地址: | 225008 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光罩 | ||
1.光罩,包括基板和设在基板上的、由光阻层构成的图案,其特征在于,所述基板上、所述图案的周围设有一条闭环的蚀刻槽,所述蚀刻槽内设有圆环型的弹性挡板和弹性密封膜,所述弹性挡板通过若干与蚀刻槽的槽底平行的连接杆连接在蚀刻槽的外侧壁上,所述连接杆伸出基板;
所述连接杆上设有若干凹槽,所述基板的侧壁上、连接杆伸出的开口处设有卡件;
所述弹性密封膜的内边固定在弹性挡板的上部,所述弹性密封膜的外边固定连接在蚀刻槽的外侧壁上。
2.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述卡件为弯钩,所述弯钩的钩体内侧可适配在凹槽中,所述弯钩的非钩体端旋转连接在基板的侧壁上。
3.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述卡件为对称设置的两个可适配在凹槽中的卡扣,所述卡扣滑动连接在基板的侧壁上。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备