[实用新型]光学调控电磁屏蔽玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种电磁屏蔽玻璃，特别是涉及一种光学调控电磁屏蔽玻璃。

背景技术

电磁屏蔽玻璃是一类具有衰减电磁辐射功率功能的透光观察视窗器件，应用于特种显示领域时，能够起到防止电磁信息泄露、抵抗外来电磁干扰的作用。传统电磁屏蔽玻璃通常是在高温高压条件下利用有机胶片材料将“防眩/减反玻璃”、“电磁屏蔽材料”和“结构支撑玻璃”粘接在一起制成的，其工艺过程较为复杂，成品率相对较低。常用的电磁屏蔽材料主要包括ITO导电膜、刻蚀丝网及金属网栅。其中，ITO导电膜具有较高的透光率，但其电导率相对较低，屏蔽效能差，仅能满足屏效要求较低的应用要求；刻蚀丝网和金属网栅具有相对较高的屏蔽效能，但其透光率会随屏蔽效能的增强而迅速衰减，且存在由于光学干涉而产生的莫尔条纹现象，极大的限制了其应用途径。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于，提供一种新型结构的光学调控电磁屏蔽玻璃，所要解决的技术问题是使其同时具有高光学透过率和高屏蔽效能，从而更加适于实用。

本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本实用新型提出的一种结构的光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括:

结构支撑玻璃；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

本实用新型的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的复合金属膜层为：

铬膜层和铜膜层；

氧化铝膜层、铝膜层、和银膜层；

或铬膜层和金膜层。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的过渡膜层的厚度为50-80nm；所述的屏蔽金属膜层厚度为300-700nm。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的所述的结构支撑玻璃的厚度为0.7-4mm，光学透过率为89％-92％。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括：

结构支撑玻璃；

复合减反射膜，附着在所述结构支撑玻璃表面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的复合减反射膜的单面反射率为0.5％-1.0％。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的复合减反射膜包括：

二氧化硅膜，附着在结构支撑玻璃的另一表面，厚度为60-100nm；

三氧化铝膜，附着在所述二氧化硅膜上，厚度为50-200nm；

钛酸镧膜、钛酸锶膜、三氧化二钽膜或二氧化钛膜，附着在所述三氧化铝膜上，厚度为80-260nm；

氟化镁膜，附着在所述氟化镁膜上，厚度为70-110nm。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括：

结构支撑玻璃，一表面为经防眩处理的亚光面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的亚光面的雾都为2％-20％，光泽度为110-35。

借由上述技术方案，本实用新型光学调控电磁屏蔽玻璃至少具有下列优点：

本实用新型中电磁屏蔽材料直接附着在结构支撑玻璃上，使用的电磁屏蔽材料为一层具有无规则二维网格形态的高电导率复合金属膜，该形态的电磁屏蔽材料通过随机无序网格状结构对光学干涉效应的调控来消除莫尔条纹现象；本实用新型的光学调控电磁屏蔽玻璃无莫尔干涉条纹现象，结构简单，耐候性强，且同时具有高光学透过率和高屏蔽效能，其透光率大于80％，电磁屏蔽效能大于等于20dB。本实用新型的制备方法包括过涂胶、激光直写刻蚀、真空镀膜、去胶，制备方法简单，成品率高。