[实用新型]一种地坪结构有效

专利信息
申请号: 201720777163.X 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN206987280U 公开(公告)日: 2018-02-09
发明(设计)人: 赵旭;李曼;陈志君;潘溢滔;王敬峰 申请(专利权)人: 上海建工七建集团有限公司
主分类号: E04F15/00 分类号: E04F15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200120 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 地坪 结构
【权利要求书】:

1.一种地坪结构,包括设置于地下室底板上的地坪,所述地坪上设有排水明沟,其特征在于,还包括设置于地坪内的排水暗沟结构,所述排水暗沟结构位于所述地坪的下部,所述排水暗沟结构包括设置于底板上的一对相平行的砖墙,所述砖墙包括若干呈一字型排列的砖块,相邻砖块之间留有一定距离,所述一对相平行的砖墙之形成暗沟,所述暗沟与所述排水明沟垂直连通,所述一对相平行的砖墙以及暗沟之上覆有一预制板。

2.如权利要求1所述的地坪结构,其特征在于,相邻砖块之间的一定距离为所述砖块的厚度的0.5-1.5倍。

3.如权利要求1所述的地坪结构,其特征在于,相邻砖块之间的一定距离为所述砖块的厚度的1倍。

4.如权利要求1所述的地坪结构,其特征在于,所述预制板的尺寸为500mm长*500mm宽*100mm厚,内配单层双向

5.如权利要求1所述的地坪结构,其特征在于,所述砖块的宽度为120mm,厚度为50mm。

6.如权利要求1所述的地坪结构,其特征在于,所述地坪的厚度大于等于300mm。

7.如权利要求1所述的地坪结构,其特征在于,所述排水明沟以所述地下室底板的上表面作沟底。

8.如权利要求1所述的地坪结构,其特征在于,所述排水明沟上设有排水明沟盖板。

9.如权利要求1-8中任意一项所述的地坪结构,其特征在于,所述排水暗沟结构的数量为两个以上,所述排水暗沟结构分布于所述排水明沟的一侧或者两侧。

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