[实用新型]带二次进风和收料仓内锥装置的分级机有效

专利信息
申请号: 201720784264.X 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN207025855U 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 覃林;陈大明;方旭龙 申请(专利权)人: 四川丰能粉体设备有限公司
主分类号: B07B11/00 分类号: B07B11/00;B07B11/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 621050 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 二次 收料仓内锥 装置 分级
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及分级机,具体涉及带二次进风和收料仓内锥装置的分级机。

背景技术

气流分级机物料经给料机构投入分级机后,在分级涡旋力的作用下,粗细粉分离。满足细度要求的细粉经分级轮进入细粉捕集系统。粗粉及团聚状细粉沿机壁降至二次进风处,由此处叶栅产生的螺旋离心上升气流对物料进行强烈冲洗,使粗细粉再次分离。细粉随上升气流再次进入分级区进行分选;粗粉降至一次进风处,接受一次进风气流的强烈清洗,使纯净的粗粉排出机外。卧式分级轮具有精确的顶点切割尺寸,保证细粉中不含异常大颗粒,同时粗粉得到了充分的清洗。本分级机具有非常高的分级精度、分级效率和分级细度。

分级机是粉碎设备的粒度控制部件,其高速转动形成离心力,将受离心力影响较大的大颗粒甩出、下落至下部的收料仓作为粗颗粒收集。分级机在分级工作时具有一定的概率因素,超细物料也具有较强的静电吸附能力,故分级机在分选作业时一次分选出的颗粒中,会因上述因素含有部份超细粉,这部份超细粉不能得到有效分选会造成提净率和成品率的降低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于:提供一种二次可调节进风的分级机,起到对超细粉进行分选的作用,同时能够避免已经分选完成后的物料再次回到分选区。

带二次进风和收料仓内锥装置的分级机,其特征在于包括:分散锥调节阀、分散锥、反射锥、二次风风道、收料仓内锥、二次风入口调节阀、分级机,所述的分散锥调节阀、分散锥、反射锥、二次风风道、收料仓内锥、二次风入口调节阀设置在分级机与收料仓之间,所述的二次风入口调节阀为二次风风道的进风量调节装置,所述反射锥的间隙通过分散锥调节阀调节分散锥高度进行控制。

优选的,所述的二次风风道的入口处安装有空气过滤塞。

优选的,各级粒度通过二次风风道的进风量和反射锥间隙进行提取。

与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:本实用新型采用的带二次进风和收料仓内锥装置的分级机,可显著提高物料的提净率和分选精度,显著提高成品率,并在一定程度上提高处理量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图,

图中:分散锥调节阀1、分散锥2、反射锥3、二次风风道4、收料仓内锥5、二次风入口调节阀6、分级机7。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步描述:

实施例:

如附图1所示

本实用新型的带二次进风和收料仓内锥装置的分级机,包括:分散锥调节阀1、分散锥2、反射锥3、二次风风道4、收料仓内锥5、二次风入口调节阀6、分级机7,所述的分散锥调节阀、分散锥、反射锥、二次风风道、收料仓内锥、二次风入口调节阀设置在分级机与收料仓之间,所述的二次风入口调节阀为二次风风道的进风量调节装置,所述反射锥的间隙通过分散锥调节阀调节分散锥高度进行控制。

本实用新型的进一步设置为:所述的二次风风道的入口处安装有空气过滤塞;各级粒度通过二次风风道的进风量和反射锥间隙进行提取。

本方案的带二次可调节进风装置的分级机,在分级主机和下部的收料仓之间,设计了二次进风装置,由外部输送上升气流,使物料在下降时受上升气流影响,再次返回上部的分级机二次分选,并以此循环,二次进风口的大小可根据应用要求任意调节。

分级机在分级处理物料时,物料进入上部分级机7分级区域,依靠重力离心原理将粗颗粒甩料,自然下落至下部的收料仓收集,其分级和自然下落存在一定的随机概率因素,即有一些大或超细颗粒会随机的被分选出来下落至收料仓收集,造成分级精度的下降。本实用新型在上部分级机与下部收料仓之间增加了二次入口调节阀6,通过二次风风道4由四周均匀进入分级区间,可在物料下落时提供一股上升气流,使物料再次回到分级机进行二次分选,二次风的风量大小可通过阀门进行调节。物料在分级机、二次上升风和收料仓之间往复循环,颗粒得到多次分选,以此提高了分级精度,显著增加了提净率。同时因外部二次风的进入,内部的气流压力增大,在增加二次风入口外,本案还增加了收料仓内部的分散锥2、反射锥3和收料仓内锥5,用以避免已经分选完成后的物料,下落至收料仓待收集后,被二次风牵引再次近回分级区,造成粒度波动和效率的降低。采用二次风和收料仓内锥的组合设计,完整解决了分级精度不佳、提净率不高等传统设备的缺点。

利用本实用新型所述的技术方案,或本领域的技术人员在本实用新型技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本实用新型的保护范围。

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