[实用新型]二极管有效

专利信息
申请号: 201720811353.9 申请日: 2017-07-06
公开(公告)号: CN207217553U 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 徐哲;刘钺杨;吴迪;曹功勋;和峰;何延强;王耀华;刘江;崔磊;金锐;温家良;潘艳 申请(专利权)人: 全球能源互联网研究院有限公司
主分类号: H01L29/868 分类号: H01L29/868
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 代理人: 马永芬
地址: 102209 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 二极管
【权利要求书】:

1.一种二极管,其特征在于,包括:

依次分布的阳极P区、阴极N-区和阴极N+区;其中,在所述N-区中设置有N型控制区,其中所述N型控制区的平均掺杂浓度大于所述N-区的平均掺杂浓度,所述N型控制区的厚度小于所述N-区的厚度。

2.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述N型控制区的平均掺杂浓度小于所述N+区的平均掺杂浓度。

3.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,包括:

所述N型控制区的掺杂浓度为1e12~1e15cm-3

4.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述N型控制区的浓度分布方式包括以下至少之一:

均匀分布、阶梯式分布、高斯分布。

5.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述N型控制区设置于距离所述二极管背面预定距离处,所述预定距离大于所述N+区的厚度。

6.根据权利要求5所述的二极管,其特征在于,所述预定距离为20~500um。

7.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述N型控制区的厚度为15~100um。

8.根据权利要求1至7中任一所述的二极管,其特征在于,通过以下至少之一的方式生成所述N型控制区:

在所述N-区的预设位置通过离子注入的方式生成所述N型控制区;

在所述N-区的基础上通过外延增加的方式设置所述N型控制区。

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