[实用新型]一种提高两级粉碎系统中目标粒度粉体获得率的装置有效
申请号: | 201720827418.9 | 申请日: | 2017-07-10 |
公开(公告)号: | CN207126643U | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 周飞;周亮良;孟庆伟;庞昊宏;卞春华 | 申请(专利权)人: | 中南钻石有限公司 |
主分类号: | B02C21/00 | 分类号: | B02C21/00;B02C23/08 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙)41104 | 代理人: | 王聚才 |
地址: | 473264 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 两级 粉碎 系统 目标 粒度 获得 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于粉体工程技术领域,尤其涉及一种提高两级粉碎系统中目标粒度粉体获得率的装置。
背景技术
在粉体工程中通常采用两级粉碎系统将毫米级的粉体粉碎至微米级,在粉碎过程中颗粒处于随机劈裂粉碎状态,不可避免的会有部分颗粒粒度低于目标粒度。在一些特定行业中要求颗粒的粒度位于一定区间内,过粗的颗粒可以通过重复粉碎形成细颗粒,但是过细的颗粒则无法使用。因此,尽量减少过细颗粒的产生量是工程应用中提高材料利用率的重要手段。
实用新型内容
本实用新型为了解决现有技术中的问题,提供一种提高两级粉碎系统中目标粒度粉体获得率的装置,通过在两级粉碎系统之间增加粒度分选装置,提高整体系统中目标粒度粉体的获得率。
为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:一种提高两级粉碎系统中目标粒度粉体获得率的装置,包括初级粉碎系统和末级粉碎系统,所述初级粉碎系统和末级粉碎系统之间加设粒度分选装置,粒度分选装置上设有用于导入物料的进料口、用于排出较细颗粒物的出风口以及用于排出较粗颗粒物的出料口,其中,粒度分选装置的进料口与初级粉碎系统的排料口连接,粒度分选装置的出料口与末级粉碎系统的入料口连接。
所述粒度分选装置的出风口与粉体收集系统连接。
所述粒度分选装置为沉降塔,所述进料口设在沉降塔的中部,所述排料口设在沉降塔的下部,所述出风口设在沉降塔的上部。
所述沉降塔为立式设置,且上端封闭,下端敞口的圆直筒形结构,其下端敞口作为所述出料口,所述进料口设在沉降塔的侧面中部,所述出风口设在沉降塔的侧面上部。
所述粒度分选装置的出风口处配设有用于调节出风口风量的进风阀。
本实用新型的有益效果:
本实用新型通过在初级粉碎系统和末级粉碎系统中间增加分选细颗粒的粒度分选装置,使得初级粉碎系统产生的较细颗粒粉体直接进入粉体收集装置,不再经过末级粉碎系统,从而避免初级粉碎系统中获得的合格颗粒进入末级粉碎系统中遭到破坏,进而提高整体目标粒度粉体的获得率。
附图说明
图1是本实用新型的系统示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的结构和工作过程作进一步的说明。
如图1所示,本实用新型的一种提高两级粉碎系统中目标粒度粉体获得率的装置,包括初级粉碎系统1和末级粉碎系统4,所述初级粉碎系统1和末级粉碎系统4之间加设粒度分选装置。本实施例中所述粒度分选装置选用沉降塔2,沉降塔2上设有用于导入物料的进料口、用于排出较细颗粒物的出风口以及用于排出较粗颗粒物的出料口。其中,沉降塔2的进料口与初级粉碎系统1的排料口连接,沉降塔2的出料口与末级粉碎系统4的入料口连接,沉降塔2的出风口与粉体收集系统5连接。本实施中,初级粉碎系统1、末级粉碎系统4、沉降塔2以及粉体收集系统5的结构及工作原理均为现有技术,不再详述。
所述沉降塔2为立式设置,且上端封闭,下端敞口的圆筒形结构,其下端敞口作为沉降塔2的出料口,所述进料口设在筒式沉降塔2的侧面中部,所述出风口设在筒式沉降塔2的侧面上部。
所述筒式沉降塔2的出风口处配设有用于调节出风口风量的进风阀3,通过调节出风口风量调节筒式沉降塔2出风口处的颗粒粒度。
本实用新型的工作流程如下:设置在初级粉碎系统进料口处的螺旋喂料器将毫米级颗粒送入初级粉碎系统1。经初级粉碎系统粉碎后的物料进入沉降塔2,通过调节进风阀3控制沉降塔2内粉体颗粒中较细颗粒向上运动经出风口并通过管道直接进入粉体收集系统5,没有达到目标粒度的粉体颗粒则在沉降塔2内向下运动进入末级粉碎系统4,经过末级粉碎系统4粉碎后进入粉体收集系统5.通过分别调节初级粉碎系统1和末级粉碎系统4的转盘转速和间隙进行合理匹配可使初级粉碎系统1产出的颗粒中心粒径略大于目标粒径,末级粉碎系统4产出的颗粒为合格粒度。通过增加沉降塔2可在两级粉碎系统中间进行初步风选,使初级粉碎系统1产出的合格颗粒不再进入末级粉碎系统4,从而避免合格颗粒遭到破坏,提高目标粒度粉体的获得率。
以上实施例仅用以说明而非限制本实用新型的技术方案,尽管参照上述实施例对本实用新型进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解:依然可以对本实用新型进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型的精神和范围的任何修改或局部替换,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
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