[实用新型]盖体组件及烹饪器具有效

专利信息
申请号: 201720846316.1 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN207912550U 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 吕伟刚 申请(专利权)人: 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司
主分类号: A47J27/08 分类号: A47J27/08
代理公司: 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 代理人: 尚志峰;汪海屏
地址: 528311 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 压力模块 凸台 盖板 烹饪器具 上盖 盖体组件 高压气体 底壁 本实用新型 锅体方向 控制部件 密封性能 用户体验 体内部 有压力 凹陷 锅体 通孔 外周 有向 密封 泄漏 保证
【权利要求书】:

1.一种盖体组件,用于烹饪器具,所述烹饪器具包括上盖和锅体,其特征在于,所述盖体组件包括:

盖板,设置于所述上盖和所述锅体之间,在所述盖板上设置有向所述锅体方向凹陷的凹槽,在所述凹槽的底壁上开设有通孔;

压力模块,设置于所述上盖与所述盖板之间,所述压力模块上集成有压力控制部件,所述压力模块卡设在所述凹槽之中;

其中,在所述凹槽的外周上还设置有凸台,所述凸台到所述上盖的距离小于所述盖板的底壁及所述凹槽到所述上盖的距离。

2.根据权利要求1所述的盖体组件,其特征在于,

所述凸台到所述凹槽的中心的距离相等的各处的高度相等;

其中,所述凸台在靠近所述凹槽处的高度大于所述凸台在远离所述凹槽处的高度。

3.根据权利要求1所述的盖体组件,其特征在于,所述盖体组件还包括:

密封件,设置在所述压力模块与所述凹槽之间,将所述压力模块与所述凹槽的接触处进行密封。

4.根据权利要求3所述的盖体组件,其特征在于,

所述密封件的底部具有向下延伸的接触部,所述接触部伸入到所述凹槽内部,且所述接触部抵靠在所述凹槽的槽壁上。

5.根据权利要求3所述的盖体组件,其特征在于,

所述凸台的高度大于所述密封件在受压迫时的形变量。

6.根据权利要求4所述的盖体组件,其特征在于,

所述接触部的宽度大于所述凹槽与所述接触部相接触处的宽度。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的盖体组件,其特征在于,

所述凸台与所述凹槽的接触处设置有倒圆角;和/或

所述凸台与所述盖板的底壁的接触处设置有倒圆角。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的盖体组件,其特征在于,

所述盖板、所述凹槽和所述凸台为一体式结构。

9.根据权利要求3至6中任一项所述的盖体组件,其特征在于,

所述凹槽为圆形凹槽;

所述密封件为环形密封件,且所述密封件朝向所述凹槽中心线的一面的内壁为光滑弧形内壁。

10.一种烹饪器具,其特征在于,包括如权利要求1至9中任一项所述的盖体组件。

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