[实用新型]裸眼3D光栅

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示器件领域，特别是涉及一种裸眼3D光栅。

背景技术

中国专利文献CN 104166240 A记载了一种裸眼 3D 显示装置，其中记载有采用光栅式 (barrier type) 裸眼 3D 显示装置的结构。裸眼 3D 显示装置主要是利用双眼视差的原理使人产生 3D 感觉，即通过对入射光的光路进行调节，使人的左眼能够接收到左眼影像，人的右眼能够接收到右眼影像，且左眼影像和右眼影像不会互相串扰。

现有的裸眼3D光栅挡板为遮罩式结构，制备过程中，采用各个功能光栅层分次制备的方案，各个光栅层之间的对位精度要求高，制备难度非常大。为了提高对位精度，需要采用低膨胀率的玻璃基板、低膨胀率的MASK（光罩）基板、高精度MASK，便于两次制备3D光栅图形间的套合、生产线对温度精准控制，要求玻璃基板的温度变化要在0.5度以下。

例如CN 104345935 A中所述的触控传感器和包含此触控传感器的触控面板及其制作方法中，记载了一种溅镀方式形成的视差光栅层，利用溅镀（Sputter）或蒸镀的方式所形成的条状图案来做为其中的视差光栅，但该光栅的具体结构未公开。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种裸眼3D光栅，能够降低裸眼3D光栅制备过程中的技术难度，能够采用普通玻璃基板、普通的光罩基板和普通精度的光罩。

为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种裸眼3D光栅，包括基层，在基层的一面设有低反射层，低反射层上方设有高反射层，至少高反射层为光栅结构。

优选的方案中，低反射层和高反射层为光栅结构。

另一可选的方案中，一种裸眼3D光栅，在基层的一面设有高反射层，高反射层上方设有低反射层，高反射层和低反射层为光栅结构。

优选的方案中，所述的基层为玻璃基板或透明塑料基板。

优选的方案中，所述的低反射层为氧化钼层；所述的高反射层为铝层或银层。

优选的方案中，由基层、低反射层和高反射层组成的光栅器件位于背光组件与阵列玻璃组件之间。

一种制备上述的裸眼3D光栅的制备方法，包括以下步骤：

一、在真空状态下，在磁控溅射设备中，以Mo靶作为靶材，通入氧气，在基层的一面以磁控反应溅射工艺制备低反射层；

二、更换为Al靶或Ag靶作为靶材，通入氩气，在低反射层的表面以磁控反应溅射工艺制备高反射层；

三、刻蚀光栅；

通过以上步骤实现裸眼3D光栅的制备。

另一可选的方案中，一种制备上述的裸眼3D光栅的制备方法，包括以下步骤：一、在磁控溅射设备中，以Al靶或Ag靶作为靶材，通入氩气，在基层的一面以磁控反应溅射工艺制备高反射层；

二、更换为Mo靶作为靶材，通入氧气，在高反射层的表面以磁控反应溅射工艺制备低反射层；

三、刻蚀光栅；

通过以上步骤实现裸眼3D光栅的制备。

优选的方案中，低反射层溅镀的温度条件为100~150℃；高反射层溅镀的温度条件为70~100℃。

优选的方案中，所述的刻蚀方法采用黄光刻蚀，包括以下步骤：

s1、上光阻；

s2、用光罩曝光，光照条件为平行紫外线光线；光积量：50~150mj；

s3、显影，显影后检测；

s4、以刻蚀液刻蚀；

s5、脱膜；

通过以上步骤实现光栅刻蚀。

本实用新型提供的一种裸眼3D光栅，通过采用上述的结构，能够一次生产两种反射属性相反的膜层，其中低反射层的反射率小于20%以下，高反射层的反射率大于70%以上，一次完成裸眼3D光栅制备。本实用新型能够采用更为廉价的普通玻璃基板，普通玻璃基板的光罩和普通精度的光罩，无需考虑两次曝光的图形的光罩套合问题，并将制备工序减少一道，有效降低了裸眼3D光栅的制备难度。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

图1为本实用新型中裸眼3D光栅的原理图。

图2为本实用新型中另一种裸眼3D光栅的原理图。

图3为本实用新型中裸眼3D光栅的局部放大图。

图4为本实用新型中另一种结构的裸眼3D光栅的局部放大图。

图5为本实用新型的工艺流程图。