[实用新型]一种胶液自净化设备有效
申请号: | 201720878155.4 | 申请日: | 2017-07-19 |
公开(公告)号: | CN207169205U | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 李文斌 | 申请(专利权)人: | 江苏理文造纸有限公司 |
主分类号: | B01D35/02 | 分类号: | B01D35/02 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 215536 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 净化 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及制浆造纸领域,具体地是涉及一种胶液自净化设备。
背景技术
国内外大多数生产包装纸的纸机一般都采用淀粉表面施胶技术,表面施胶不仅可以提高成纸外观质量要求,还可以提高成纸强度,改善印刷性能,同时加入施胶剂后还可以提高成纸的吸水性等纸页性能,降低生产成本。然而,随着市场对纸张要求越来越高,并且淀粉、施胶剂等化学品价格越来越高,生产成本直线上升,大多数造纸厂对造纸表胶施胶液采用循环利用。可是施胶液经过多次循环利用后,施胶液中含有了大量的纤维,淀粉粒子,胶粘物等杂质,如果不出去这些杂质的话,会导致纸面横幅施胶不均,产生纸张外观质量,同时还磨损计量棒等施胶设备。所以一般造纸厂采用振动筛来和过滤器来净化施胶液,可这种设备不仅对施胶液浪费极大,净化效果不好,还要不定时的进行拆洗,拆洗时导致施胶液流量波动大,对施胶影响大,甚至造成断头,造成生产成本的上升。
实用新型内容
鉴于以上内容,本实用新型提供了一种胶液自净化设备。
为达到上述目的,本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种胶液自净化设备,包括压力筛、刮刀驱动系统、过滤装置和排污室;所述的压力筛上设有冲洗水连接口;所述的刮刀驱动系统固定在所述压力筛的顶部;所述的过滤装置设置在所述压力筛的下端;所述的过滤装置包括滤网和气缸;所述的排污室设置在设备的下端;所述的排污室包括储存室以及排污装置;所述的排污装置还设有排污口和冲洗水排污口。
进一步地,所述的压力筛为一封闭的设定容器。
进一步地,胶液自净化设备为一恒定的过滤分离系统。
由于上述技术方案的运用,本实用新型与现有技术相比采用自净化设备后清水消耗降低了60.21%,计量棒磨损降低了42.48%,因施胶不均产生的降级减少了55.65%,提高了成纸的品质,表胶断头时间减少了22.25%,有利于纸机稳定运行。
附图说明
图1是一种胶液自净化设备的结构示意图。
图中1、刮刀驱动系统;2、过滤装置;21、冲洗水连接口;3、排污室;4、排污装置;5、冲洗水排污口;6、排污口。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护的范围:
如图1所示的一种胶液自净化设备,包括压力筛、刮刀驱动系统1、过滤装置2和排污室3;所述的压力筛上设有冲洗水连接口21;所述的刮刀驱动系统1固定在所述压力筛的顶部;所述的过滤装置2设置在所述压力筛的下端;所述的过滤装置2包括滤网和气缸;所述的排污室3设置在设备的下端;所述的排污室3包括储存室以及排污装置4;所述的排污装置4还设有排污口6和冲洗水排污口5。
进一步地,所述的压力筛为一封闭的设定容器。
进一步地,胶液自净化设备为一恒定的过滤分离系统。
本设备采用自净化系统后,施胶液洁净度大幅度提高,有利于表面施胶,成纸表面质量大幅度提高,物理指标稳定,降级较少,成纸品质提高。成纸表面施胶均匀后,降低了正反两面的固含量,减少了施胶液的用量,降低了成本,施胶的正常,减少了断头,优化了纸机稳定运行。实验数据如下图:
本设备采用自净化系统后成纸施胶均匀,淀粉胶液通过自净化系统后分离排除杂质较多,施胶效果好,正反两面固含量降低,胶流量下降,有效减少淀粉的耗用,降低了施胶压力,有效的减轻了计量棒和施胶辊的磨损,计量棒磨损降低了42.48%,提高了成纸品质。成纸物理指针大幅度增加,因施胶效果不好造成的降级大幅度减少,降级减少了55.65%,成纸质量进一步提高,因施胶效果好,在表胶处断纸次数大大减少,断头时间减少了22.25%,提高纸机运行效率,有利于纸机稳定运行,降低了成本。表面施胶系统经过自净化系统后,表胶设备运行效率提高,成品纸质量提高,纸机断纸率下降,辅料用量下降,生产成本下降,清水消耗降低了60.21%。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围,凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
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