[实用新型]一种硅片清洗周转盘有效

申请号：	201720911481.0	申请日：	2017-07-26
公开（公告）号：	CN206976300U	公开（公告）日：	2018-02-06
发明（设计）人：	徐明星	申请（专利权）人：	山东芯诺电子科技股份有限公司
主分类号：	H01L21/67	分类号：	H01L21/67;H01L21/673
代理公司：	青岛发思特专利商标代理有限公司37212	代理人：	卢登涛
地址：	272100 山东省济***	国省代码：	山东;37
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摘要：
搜索关键词：	一种硅片清洗周转
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【权利要求书】：

1.一种硅片清洗周转盘，其特征在于，包括底座(1)、支撑板(2)、两个放置架(3)，所述支撑板(2)竖直设置在底座(1)中轴线上，支撑板(2)两侧分别设置所述的两个放置架(3)，所述放置架(3)均包括两个相对的硅片放置部(5)，硅片放置部(5)由互成锐角夹角的放置架侧板和放置架底板围成，两个硅片放置部(5)连接使放置架(3)纵剖面呈W形。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗周转盘，其特征在于，所述放置架(3)前后侧均设置有挡板(8)。

3.根据权利要求2所述的一种硅片清洗周转盘，其特征在于，所述挡板(8)的顶部低于放置架(3)的顶部。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗周转盘，其特征在于，所述放置架(3)内表面铺设有橡胶垫。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗周转盘，其特征在于，所述支撑板(2)顶部设置有提手(7)。

6.根据权利要求1至5任一项所述的一种硅片清洗周转盘，其特征在于，所述两个硅片放置部(5)的连接处设有隔板(6)。

7.根据权利要求6所述的一种硅片清洗周转盘，其特征在于，所述放置架侧板和放置架底板成角45°-90°。

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