[实用新型]自润滑轴承处的铜垫结构有效
申请号: | 201720927256.6 | 申请日: | 2017-07-18 |
公开(公告)号: | CN207224444U | 公开(公告)日: | 2018-04-13 |
发明(设计)人: | 石敏 | 申请(专利权)人: | 宁波久润轴承科技有限公司 |
主分类号: | B29C45/17 | 分类号: | B29C45/17;F16N1/00 |
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地址: | 315613 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 润滑 轴承 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种注塑机上的零部件结构,尤其是涉及一种自润滑轴承处的铜垫结构。
背景技术
注塑机又名注射成型机或注射机。它是将热塑性塑料或热固性料利用塑料成型模具制成各种形状的塑料制品的主要成型设备。注塑机按照注射装置和锁模装置的排列方式,可分为立式、卧式和立卧复合式。
注塑机成型机用顶针油缸,锁模油缸等普遍都是短行程的,其油缸内部起导向和密封作用的部件几乎都是有弹性的橡胶制品。而二板式注塑机中开合模用的移模油缸,由于行程问题,都是采用长行程的移模油缸;所以针对二板式注塑机用移模油缸继续延用普通油缸内部全部采用橡胶制品密封件的结构的话,注塑机的高频繁运动会使长行程的活塞杆组件产生弯曲现像。活塞杆组件与橡胶制品的密封件产生频繁磨擦,会磨损密封件,从而出现悬臂梁及漏油等问题;这些都不能满足注塑机的稳定性能。
铜垫主要是通过表面与运动部件接触,需要起到良好的支承作用,由于其表面与运动部件、导轨或者工件台面频繁接触,极易产生磨损,因此需要在铜垫表面上增添润滑油脂,为了进一步增加润滑油脂的存储量,需要在铜垫上设置油槽,而现有的铜垫上的油槽结构设置不合理,润滑效果差,影响使用效果。因此,有必要对现有的铜垫结构进行优化。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种自润滑轴承处的铜垫结构,确保润滑油脂能够很好的扩散到铜垫表面,保证滑油脂能够充分与相应部件接触,有效防止导轨磨损。
本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为:自润滑轴承处的铜垫结构,包括铜垫本体,所述的铜垫本体为矩形的块状结构,所述的铜垫本体的表面对称设置有两个安装孔,两个安装孔之间设置有凹槽,所述的凹槽包括多个纵槽、横槽,多个纵槽相互平行等间距的排列,多个横槽位于同一条直线上,相连的两个纵槽之间通过一个横槽连接,所述的纵槽与横槽相互垂直设置,所述的凹槽的中心设置有油孔。
本实用新型进一步的优选方案:所述的铜垫本体的下侧面向内凹陷成弯曲弧形面结构。
本实用新型进一步的优选方案:所述的铜垫本体的上侧面的两端设置倒角结构。
本实用新型进一步的优选方案:所述的安装孔的上端面口径大于下端面口径,且安装孔的中部为锥面连接上端面与下端面。
本实用新型进一步的优选方案:所述的凹槽包括三个纵槽与两个横槽,所述的油孔位于中间的纵槽的中心。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于铜垫本体为矩形的块状结构,铜垫本体的表面对称设置有两个安装孔。如此设计铜垫本体的结构,能够适应其安装环境、工作环境。两个安装孔之间设置有凹槽,所述的凹槽包括多个纵槽、横槽,多个纵槽相互平行等间距的排列,多个横槽位于同一条直线上,相连的两个纵槽之间通过一个横槽连接,纵槽与横槽相互垂直设置,凹槽的中心设置有油孔。润滑油脂能够通过油孔到达凹槽,并通过凹槽的结构设置能够很好的扩散到铜垫本体表面,保证滑油脂能够充分与相应部件接触,有效防止导轨磨损。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为图1中AA截面的剖视图。
具体实施方式
下面结合附图,对本实用新型作详细的说明。
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如图1至图2所示:自润滑轴承处的铜垫结构,包括铜垫本体1,铜垫本体1为矩形的块状结构,铜垫本体1的表面对称设置有两个安装孔2,两个安装孔2之间设置有凹槽,凹槽包括多个纵槽4、横槽5,多个纵槽4相互平行等间距的排列,多个横槽5 位于同一条直线上,相连的两个纵槽4之间通过一个横槽5连接,纵槽4与横槽5相互垂直设置,凹槽的中心设置有油孔6。
铜垫本体1的下侧面向内凹陷成弯曲弧形面结构。更好的适应本实用新型所处的安装环境与使用环境。
铜垫本体1的上侧面的两端设置倒角结构。更好的适应本实用新型所处的安装环境与使用环境。
安装孔2的上端面口径大于下端面口径,且安装孔2的中部为锥面连接上端面与下端面。安装后,不影响铜司本体1表面。
凹槽包括三个纵槽4与两个横槽5,油孔6位于中间的纵槽4的中心。确保润滑油液能够通过油孔6顺利扩散到整个凹槽。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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