[实用新型]一种上部电极天板及干法刻蚀设备有效

专利信息
申请号: 201720944530.0 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN207038479U 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 赵吾阳;廖鹏宇;欧飞;彭军;宋亮 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L51/56
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 上部 电极 刻蚀 设备
【权利要求书】:

1.一种上部电极天板,用于干法刻蚀,其特征在于,所述上部电极天板具有多个拼接块。

2.根据权利要求1所述的上部电极天板,其特征在于,每一所述拼接块具有多个气孔。

3.根据权利要求2所述的上部电极天板,其特征在于,所述多个拼接块上的气孔的数量不完全相同。

4.根据权利要求2或3所述的上部电极天板,其特征在于,每一所述拼接块上的气孔均匀分布。

5.根据权利要求1所述的上部电极天板,其特征在于,所述上部电极天板具有12个拼接块。

6.根据权利要求5所述的上部电极天板,其特征在于,每3个所述拼接块呈三角形分布,所述12个上部电极天板分布在四个区域,所述四个区域构成的图形为矩形。

7.一种干法刻蚀设备,其特征在于,包括:权利要求1~6任一所述的上部电极天板。

8.根据权利要求7所述的干法刻蚀设备,其特征在于,还包括下部电极,以及位于所述上部电极天板和所述下部电极之间的耦合线圈。

9.根据权利要求8所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述耦合线圈分区域设置,耦合线圈所处区域与所述拼接块所处区域相对应。

10.根据权利要求8所述的干法刻蚀设备,其特征在于,还包括:控制器,用于单独控制每一所述拼接块与所述下部电极之间的电场强度。

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