[实用新型]一种上部电极天板及干法刻蚀设备有效
申请号: | 201720944530.0 | 申请日: | 2017-07-31 |
公开(公告)号: | CN207038479U | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 赵吾阳;廖鹏宇;欧飞;彭军;宋亮 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 上部 电极 刻蚀 设备 | ||
1.一种上部电极天板,用于干法刻蚀,其特征在于,所述上部电极天板具有多个拼接块。
2.根据权利要求1所述的上部电极天板,其特征在于,每一所述拼接块具有多个气孔。
3.根据权利要求2所述的上部电极天板,其特征在于,所述多个拼接块上的气孔的数量不完全相同。
4.根据权利要求2或3所述的上部电极天板,其特征在于,每一所述拼接块上的气孔均匀分布。
5.根据权利要求1所述的上部电极天板,其特征在于,所述上部电极天板具有12个拼接块。
6.根据权利要求5所述的上部电极天板,其特征在于,每3个所述拼接块呈三角形分布,所述12个上部电极天板分布在四个区域,所述四个区域构成的图形为矩形。
7.一种干法刻蚀设备,其特征在于,包括:权利要求1~6任一所述的上部电极天板。
8.根据权利要求7所述的干法刻蚀设备,其特征在于,还包括下部电极,以及位于所述上部电极天板和所述下部电极之间的耦合线圈。
9.根据权利要求8所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述耦合线圈分区域设置,耦合线圈所处区域与所述拼接块所处区域相对应。
10.根据权利要求8所述的干法刻蚀设备,其特征在于,还包括:控制器,用于单独控制每一所述拼接块与所述下部电极之间的电场强度。
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