[实用新型]一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜

权利要求书

1.一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜，包括反应釜本体，在反应釜本体内设置有贯穿整个反应釜本体上下端的转轴，顺转轴轴向套装有螺旋向下排布的螺旋叶片，其特征在于：在转轴的底部安装有防沉淀装置，所述防沉淀装置包括与转轴联动的底盘，在底盘上表面均匀分布有至少三个具有导流槽的导流槽体，各导流槽的槽口朝向一致，且朝向传动轴的旋转方向。

2.根据权利要求1所述的一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜，其特征在于：所述导流槽体倾斜设置在底盘的上表面，导流槽体的下端与底盘上表面固接，上端悬空。

3.根据权利要求2所述的一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜，其特征在于：导流槽体的倾斜角度与反应釜本体底部的锥形封头侧壁倾斜面的角度相同。

4.根据权利要求2或3所述的一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜，其特征在于：各导流槽体上端位于同一平面，且各导流槽体上端位于同一圆面的周长上，该圆面直径大于底盘直径10-15cm。

5.根据权利要求1或2或3所述的一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜，其特征在于：在底盘圆周上设置有齿片组，所述齿片组包括向上翻起的上翻齿片和向下翻折的下翻齿片，上翻齿片、下翻齿片依次交错布设于底盘圆周上。

6.根据权利要求5所述的一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜，其特征在于：上翻齿片、下翻齿片与底盘之间的夹角不小于60°。

7.根据权利要求5所述的一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜，其特征在于：在底盘底面设置有刮片，所述刮片对称分布于底盘底面上。

8.根据权利要求1或2或3所述的一种带有物料防沉淀装置的螺旋式反应釜，其特征在于：在底盘底面设置有刮片，所述刮片对称分布于底盘底面上。