[实用新型]抛光垫有效
| 申请号： | 201720968162.3 | 申请日： | 2017-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN207415097U | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 朱顺全;张季平;吴晓茜;车丽媛 | 申请（专利权）人： | 湖北鼎龙控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430057 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透光窗口 研磨层 检测器 抛光垫 本实用新型 等分设置 干涉信号 光学测定 联合检测 研磨终点 圆心 抛光 研磨 接收光 均一性 圆心角 相等 | ||
1.一种抛光垫，包括研磨层和透光窗口，其特征在于，所述研磨层中设有至少两个透光窗口，且以所述研磨层的中心为圆心，相邻两个所述透光窗口所在位置对应的圆心角均相等，每个所述透光窗口下方均设有与其一一对应的可接收光的干涉信号的同时工作的检测器。
2.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，至少两个所述检测器中可分别接收同一波长或不同波长的光的干涉信号。
3.如权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，所述研磨层中设有两个透光窗口，对应的两个所述检测器中分别接收波长为200～400nm和波长为500～800nm的光的干涉信号。
4.如权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，还包括：
一体成型的透光层，其包括；
透光垫层，其设于所述研磨层的底部；
至少两个透光窗口，其位于所述透光垫层的上方且设于所述研磨层中；以及
至少两个透光口，其位于所述透光垫层的下方，所述透光口与所述透光窗口一一对应，每个所述检测器设于所述透光口下方且从所述透光口进入的光线能通过所述透光窗口；
底面层，其位于所述透光垫层的底部，所述底面层中设有供所述透光口穿过并固定的第一透光孔。
5.如权利要求4所述的抛光垫，其特征在于，所述透光层为非发泡体。
6.如权利要求5所述的抛光垫，其特征在于，所述透光垫层中设有气孔，且所述气孔不阻碍从所述透光口或透光窗口通过的光线。
7.如权利要求6所述的抛光垫，其特征在于，所述透光窗口与所述透光口大小相同且对称设置，且多个所述气孔均匀分布在所述透光垫层中。
8.如权利要求4所述的抛光垫，其特征在于，所述底面层为用于缓冲的缓冲层。
9.如权利要求4所述的抛光垫，其特征在于，所述底面层为用于研磨的第二研磨层。
10.如权利要求9所述的抛光垫，其特征在于，所述透光窗口与所述透光口大小相同且对称设置，所述研磨层和与所述研磨层相同的所述底面层上设有相同的沟槽，且承载抛光垫的研磨平台上设有与所述沟槽对应的凸起。
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