[实用新型]一种刻蚀机

说明书

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池生产设备技术领域，具体来说，涉及一种刻蚀机。

背景技术

在太阳能电池制造领域，湿法刻蚀因其成本较低，是最常用的一种刻蚀方法。在刻蚀前，通常需要向硅片上喷水，形成水膜来保证硅片不会发生过刻现象。形成水膜的质量与后续刻蚀的效果息息相关，而现有技术中对水膜喷洒方法过于简单随意，形成的水膜不够稳定均匀，影响后续的刻蚀效果。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

实用新型内容

针对相关技术中的上述技术问题，本实用新型提出一种刻蚀机，能够在硅片的表面形成均匀的水膜，刻蚀效果好。

为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种刻蚀机，包括机架，所述机架内设有若干传送滚轴，所述机架中部设有隔板，所述隔板将所述机架分隔为水膜喷洒槽和刻蚀槽，所述水膜喷洒槽的上方从左至右依次设有喷水机构、喷气机构和水膜吸收滚轮。

进一步地，所述喷气机构的喷头为倾斜设置。

进一步地，所述水膜吸收滚轮连接有升降机构。

进一步地，所述水膜吸收滚轮的滚轮表面设有若干条形凹槽。

进一步地，所述喷水机构上设有水流量调节阀。

进一步地，所述喷气机构上设有气流量调节阀。

本实用新型的有益效果：通过设置喷水机构、喷气机构和水膜吸收滚轮，使得硅片上形成的水膜均匀而平整，从而使得刻蚀效果提高，进而达到提高产品质量的技术效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本实用新型实施例所述的一种刻蚀机的结构示意图。

图中：1.机架；2.传送滚轴；3. 隔板；4.水膜喷洒槽；5.刻蚀槽；6.喷水机构；7.喷气机构；8.水膜吸收滚轮；9.硅片。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，根据本实用新型实施例所述的一种刻蚀机，包括机架1，所述机架1内设有若干传送滚轴2，所述机架1中部设有隔板3，所述隔板3将所述机架1分隔为水膜喷洒槽4和刻蚀槽5，所述水膜喷洒槽4的上方从左至右依次设有喷水机构6、喷气机构7和水膜吸收滚轮8。

具体使用时，硅片4经传送滚轴2传送到喷水机构6下方经喷水初步形成水膜，接着喷气机构7将初步形成的水膜吹开，是水膜覆盖整个硅片4，最后水膜吸收滚轮8吸收掉水膜过厚的部分，使水膜均匀平整。

为了使水膜吹开的效果更好，所述喷气机构7的喷头为倾斜设置。

为了能够根据需要调节刻蚀的深浅效果，所述水膜吸收滚轮8连接有升降机构。

为了使吸收滚轮8能够吸收容纳更多的水分，所述水膜吸收滚轮8的滚轮表面设有若干条形凹槽。

为了能够根据需要调节刻蚀的深浅效果，所述喷水机构6上设有水流量调节阀。

为了能够根据需要调节刻蚀的深浅效果，所述喷气机构7上设有气流量调节阀。

吸收滚轮8的高低、喷水机构6的流量和喷气机构7的流量都会对水膜的厚度和均匀程度产生一定影响，可以根据实际需要进行调节。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。