[实用新型]16样自动采集系统有效
申请号: | 201720985446.3 | 申请日: | 2017-08-08 |
公开(公告)号: | CN207081565U | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 温强;黄毅;张润坤 | 申请(专利权)人: | 广州微光科技有限公司 |
主分类号: | G01N1/02 | 分类号: | G01N1/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510660 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 16 自动 采集 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种光学分析仪器,尤其是16样自动采集系统。
背景技术
在很多的光学分析仪器中,仅仅设置一个数据采集点。举一个简单的例子:光学显微镜的镜头可以设置有多个,但是载物台上仅设置一个样品载玻片,每次需要更换样品都需要手动取出在前载玻片,然后再放入在后载玻片,工作效率低。另外部分样品具有温度要求,例如生物酶分解底物的光学分析一般要控制在37摄氏度,如果依靠手动更换样品必然导致每个样品温度的明显差异。
发明内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供一种可高效且连续采集多个样品数据的光学分析数据采集装置。
本实用新型的技术方案为:
16样自动采集系统,其特征在于:它包括底板、垫板、边框、立柱、顶盖和光学分析仪器,所述底板顶面通过螺栓安装有垫板,所述垫板顶面安装有圆筒状边框,所述垫板顶面且位于边框外侧的位置上竖直设立有若干立柱,所述立柱顶部安装有顶盖且顶盖位于边框上方,所述顶盖顶面安装有光学分析仪器,所述光学分析仪器设有数据采集探头,所述顶盖配合数据采集探头设置有缺口;所述边框内设置有转盘,所述转盘中央设置有安装步进电机转轴的圆孔,所述转盘盘面上均匀设置有十六个用于装样品容器的圆形凹槽。
所述数据采集探头与凹槽位置对应设置。
所述十六个凹槽除了头尾两个凹槽之间外,其他任意两个相邻凹槽之间的步距角均为21.6°,也就是说两者的圆心与转盘圆心连线后的夹角为21.6°,所述步进电机的步距角为1.8°。其作用是可以通过步进电机控制转盘均匀的转动,保证单位时间凹槽的圆心必然经过数据采集探头。步进电机没前进12步就转换一个样品,操作者即使不通过电脑控制也可以通过简单的口算控制步进电机选择任意一个目的样品进行检测。
所述十六个凹槽的头尾两个凹槽之间设置有起始定位点,起始定位点与相邻凹槽之间的步距角为18°,也就是说起始定位点、凹槽圆心与转盘圆心连线后的夹角为18°。便于开启机器时的初始定位。
所述垫板或者边框内设置有温度调节装置。其作用是便于调整样品温度。
所述顶盖设置有便于放置和取出样品容器的缺口。
本实用新型的有益效果为:本实用新型通过十六位凹槽的转盘在放置样品容器,通过步进电机可以使得样品均匀、连续、准确的呈现给数据采集探头进行数据采集,大大提高了工作效率以及测量精度;通过转盘和边框以及温度调节装置,使得样品的温度可受到调控且保持一致性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型转盘的俯视图;
图3为本实用新型转盘的截面图。
图中,1、底板;2、垫板;3、边框;4、立柱;5、顶盖;6、光学分析仪器;7、数据采集探头;8、转盘;9、样品容器;81、盘面;82、凹槽;83、步进电机转轴;84、圆孔。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明:
如图1-3所示,16样自动采集系统,它包括底板1、垫板2、边框3、立柱4、顶盖5和光学分析仪器6,所述底板1顶面通过螺栓安装有垫板2,所述垫板2顶面安装有圆筒状边框3,所述垫板2顶面且位于边框3外侧的位置上竖直设立有若干立柱4,所述立柱4顶部安装有顶盖5且顶盖5位于边框3上方,所述顶盖5顶面安装有光学分析仪器6,所述光学分析仪器6设有数据采集探头7,所述顶盖5配合数据采集探头7设置有缺口;所述边框3内设置有转盘8,所述转盘8中央设置有安装步进电机转轴83的圆孔84,所述转盘8盘面81上均匀设置有十六个用于装样品容器9的圆形凹槽82。
所述数据采集探头7与凹槽82位置对应设置。
所述十六个凹槽82除了头尾两个凹槽82之间外,其他任意两个相邻凹槽82之间的步距角均为21.6°,也就是说两者的圆心与转盘8圆心连线后的夹角为21.6°,所述步进电机的步距角为1.8°。
所述十六个凹槽82的头尾两个凹槽82之间设置有起始定位点,起始定位点与相邻凹槽82之间的步距角为18°,也就是说起始定位点、凹槽圆心与转盘圆心连线后的夹角为18°。便于开启机器时的初始定位。
所述垫板2或者边框3内设置有温度调节装置。其作用是便于调整样品温度。
所述顶盖5设置有便于放置和取出样品容器9的缺口。
上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理和最佳实施例,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。
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