[实用新型]一种用于预处理样本的装置

权利要求书

1.一种用于预处理样本的装置，其特征在于，包括：

样本抗体盘模块，包括样本抗体盘(1)和用于带动所述样本抗体盘(1)旋转的第一旋转驱动机构，所述样本抗体盘(1)为内外圈结构，其内圈沿圆周等间距排列有多个抗体管槽(2)，其外圈沿圆周等间距排列有多个样本管槽(3)；

第一移液臂模块，包括第一探针(4)、用于固定所述第一探针(4)的第一机械臂(5)、用于带动所述第一机械臂(5)旋转的第一驱动机构(6)和用于带动所述第一机械臂(5)上下运动的第二驱动机构(7)，所述第一探针(4)用于吸取并加注抗体和样本；

第二移液臂模块，包括第二探针(8)、用于固定所述第二探针(8)的第二机械臂(9)、用于带动所述第二机械臂(9)旋转的第三驱动机构(10)和用于带动所述第二机械臂(9)上下运动的第四驱动机构，所述第二探针(8)用于加注溶解液和缓冲液；

离心盘模块，包括离心盘(11)和第二旋转驱动机构，所述离心盘(11)沿圆周等间距排列有多个反应管支架(12)，每个所述反应管支架(12)上设置有至少一个反应管槽(13)，所述离心盘(11)用于实现所述样本、所述抗体、所述溶解液和所述缓冲液的孵育、混匀及离心，所述第二旋转驱动机构用于带动所述离心盘(11)实现顺时针或逆时针转动及精确定位；

第三移液臂模块，包括第三探针(14)、用于固定所述第三探针(14)的第三机械臂(15)、用于带动所述第三机械臂(15)旋转的第五驱动机构(16)和用于带动所述第三机械臂(15)上下运动的第六驱动机构(17)，所述第三探针(14)用于抽吸离心后的上清液。

2.根据权利要求1所述的用于预处理样本的装置，其特征在于，所述用于预处理样本的装置还包括清洗模块，所述清洗模块包括清洗泵、注射泵、电磁阀、液路管道、清洗池和清洗液桶，所述第一探针(4)、所述第二探针(8)和所述第三探针(14)分别与所述注射泵连接，所述注射泵通过所述电磁阀与所述清洗泵连接，所述清洗泵入口与所述清洗液桶连接，所述清洗泵出口通过所述液路管道与所述清洗池连接。

3.根据权利要求2所述的用于预处理样本的装置，其特征在于，所述清洗池包括第一清洗池(18)、第二清洗池(19)和第三清洗池(20)，所述第一清洗池(18)设置在所述第一探针(4)下方，所述第二清洗池(19)设置在所述第二探针(8)下方，所述第三清洗池(20)设置在所述第三探针(14)下方。

4.根据权利要求1所述的用于预处理样本的装置，其特征在于，所述抗体管槽(2)的对应位置上放置有抗体管，所述抗体管用于盛装所述抗体；所述样本管槽(3)的对应位置上放置有样本管，所述样本管用于盛装所述样本；所述反应管槽(13)的对应位置上放置有反应管，所述反应管用于盛装所述样本、所述抗体和所述溶解液形成的反应液。

5.根据权利要求1所述的用于预处理样本的装置，其特征在于，所述离心盘(11)依靠自身的震动以及加注所述溶解液的液体冲力使所述样本、所述抗体和所述溶解液混匀。

6.根据权利要求1所述的用于预处理样本的装置，其特征在于，所述第二旋转驱动机构一侧设置有用于减小所述离心盘(11)震动幅度的缓冲支座(21)。

7.根据权利要求1所述的用于预处理样本的装置，其特征在于，所述第一机械臂(5)上设置有第一液面传感器，所述第一液面传感器用于自动检测所述抗体管中抗体的液面高度，所述第三机械臂(15)上设置有第二液面传感器，所述第二液面传感器用于自动检测所述反应管中上清液的液面高度。

8.根据权利要求1所述的用于预处理样本的装置，其特征在于，所述样本抗体盘(1)的外部设置有第一温控腔(22)，所述第一温控腔(22)用于使所述样本抗体盘(1)的温度维持在2～8℃；所述离心盘(11)的外部设置有第二温控腔(23)，所述第二温控腔(23)用于使所述离心盘(11)的反应温度维持在37℃。