[实用新型]一种用于原位修复注入系统的监控系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及土壤污染的原位修复技术领域，尤其涉及一种用于原位修复注入系统的监控系统。

背景技术

原位注入工艺利用原位修复注入系统将修复药剂注人土壤中，或者对于场地中浅层的污染物，通过药剂与污染物的混合反应使污染物降解或导致形态的变化。原位注入工艺所需周期短、见效快、成本低和效果好；而且该修复工艺对场地的破坏小，不用进行大规模土方开挖，可节约大量工程成本；可以同时修复深层污染的土壤和地下水，修复深度能达到地表以下数十米；对污染物种类和浓度不敏感，可以有效地处理土壤及地下水中多种类型的有机污染物；对环境的二次风险较低。

其中，原位修复注入系统大体上一般包括药剂储存装置，注药泵以及多个注药管道，其中注药泵输入管道与药剂储存装置连接，注药泵的输出管道分流后与注药管道连接，注药管道设置在注入井中。在注入系统工作时需配合各项注入参数(注入流量、注入压力、注入井水位等)的监控以实现注入工艺的平稳成功实施，而现有技术中上述注入参数主要依靠人工记录的方式进行记录和监测。但人工记录的方式存在监测数据人为干扰多、监测数据偏差大、监测不灵便、效率较低、时间较长等问题，且相对产生的人力物力投资费用也较大。

实用新型内容

针对上述现有技术中存在的不足之处，本申请提供一种用于原位修复注入系统的监控系统，该监控设备可以实现对原位修复注入系统工作参数的自动化监控，达到提高监测效率和监测数据的准确性，同时节省人力的效果。

该监控系统包括：监控设备、流量计、总压力计、多个分压力计和水位计；

所述流量计安装在原位修复注入系统中注药泵的输入管道中，其信号输出端与所述监控设备电连接；

所述总压力计安装在所述注药泵的输出管道中，其信号输出端与所述监控设备电连接，所述多个分压力计与原位修复注入系统中的多个注药管道一一对应设置，并且每一所述分压力计分别安装在对应注药管道中，其信号输出端与所述监控设备电连接；

所述水位计设置在监测井中，其信号输出端与所述监控设备电连接。

可选地，所述监控设备为可编程逻辑控制器PLC。

可选地，所述流量计为电磁流量计。

可选地，所述总压力计和每一所述分压力计均为材质为316L的压力变送器。

可选地，所述水位计为波导雷达液位计。

本实用新型的用于原位修复注入系统的监控系统，通过安装在注药泵输入管道中的流量计，可以实现对注入流量的自动测量；通过设置在注药泵输出管道中的总压力计可以实现对注入压力中的总压力的自动测量，通过安装在注入井上的注药管道中的分压力计，可以实现对每一注入井上的注药管道压力的自动测量，并且通过水位计可以对修复场地的水位进行自动测量。最终通过PLC监控设备实现了对注入系统工作参数的自动化监控，达到提高监测效率和监测数据的准确性，同时节省人力的效果。

附图说明

图1为本实用新型一种实施例提供的用于原位修复注入系统的监控系统的结构示意图。

附图标记说明：

1：监控设备，2：流量计，3：总压力计，4：分压力计，5：水位计。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，图1示出了本实施例中的用于原位修复注入系统的监控系统的结构示意图，该用于原位修复注入系统的监控系统具体包括以下结构：

监控设备1，该监控设备1是整个监控系统的核心，其通过逻辑组态，可以实现远程的数据监视、记录和控制。在本实施例该监控设备1为可编程逻辑控制器PLC。PLC是一种专为在工业环境下应用而设计的数字运算操作电子系统。它采用一种可编程的存储器，在其内部存储执行逻辑运算、顺序控制、定时、计数和算术运算等操作的指令，通过数字式或模拟式的输入输出控制各种类型的设备，并且根据机型的不同，PLC还包括多种外部设备，其作用是帮助编程、实现监控以及网络通信。常用的外部设备有编辑器、打印机、计算机等。