[实用新型]离子源主腔体和离子源腔体盖板整体定位密封结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及基质辅助激光解析离子源，尤其是涉及离子源主腔体和离子源腔体盖板整体定位密封结构。

背景技术

基质辅助激光解析离子源是固态样品解析过程， 样品在常压下制作好后，经过进、出样装置逐步进入真空系统，真空系统先由低真空再进入到高真空，由定位机构进行定位后，进而样品在一个特定的区域内进行解析。为了防止在解析时受到空气中其他微生物（主要为其中的蛋白质成分）对检测器检测结果造成影响 ，在进行激光解析的过程中，离子源腔体需要一个可靠定位、密封良好的高真空环境，真空度约为10^-7mbar级。因此，离子源腔体和离子源腔体盖板两者之间有效定位和密封，是保证离子源样品进行激光解析的前提条件。

发明内容

本实用新型目的在于提供一种离子源主腔体和离子源腔体盖板整体定位密封结构。

为实现上述目的，本实用新型采取下述技术方案：

本实用新型所述的离子源主腔体和离子源腔体盖板整体定位密封结构，包括由分子泵、真空计、离子源腔体、离子源腔口盖板组成的离子源真空腔体组件；所述离子源腔口盖板通过螺钉与离子源腔体密封连接；围绕所述离子源腔体的腔口开设有密封槽，所述密封槽内设置有密封圈；离子源腔体的腔口四角分别开设有螺孔，其中两个相邻所述螺孔的孔口分别开设有第一扩孔，两个所述第一扩孔内分别以静配合方式设置有第一定位轴套，两个所述第一定位轴套的顶部向上延伸出各自的第一扩孔之外；所述离子源腔口盖板上对应于四个所述螺孔位置处分别开设有沉头销孔，对应于两个第一扩孔的两个所述沉头销孔下孔口开设有第二扩孔，每个所述第二扩孔内分别以静配合方式设置有第二定位轴套，两个所述第二定位轴套的内孔均为下大上小的台阶孔，所述台阶孔的大直径孔径大于对应第一定位轴套的外径。

其中一个所述台阶孔的大直径孔径大于对应第一定位轴套外径的0.02-0.08mm,另一个台阶孔的大直径孔径大于对应第一定位轴套外径的0.1-0.8mm。

本实用新型优点在于解决了离子源腔体、离子源腔口盖板两者之间的定位和密封问题，为离子源腔体内的真空环境提供了基本的物理条件，防止了分子泵在初始对离子源腔体抽气时可能发生滑移造成脱落的危险。同时具有结构简单、制造成本低、安装方便、定位密封稳定。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是图1的A-A向剖视结构示意图。

图3是图2的B部放大结构示意图。

图4是图2的C部放大结构示意图。

图5是图1去掉离子源腔口盖板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的实施例作详细说明，本实施例在以本发明技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本发明的保护范围不限于下述实施例。

如图1-5所示，本实用新型所述的离子源主腔体和离子源腔体盖板整体定位密封结构，包括由分子泵、真空计、离子源腔体、离子源腔口盖板组成的离子源真空腔体组件；所述离子源腔口盖板通过螺钉与离子源腔体密封连接；围绕所述离子源腔体的腔口开设有密封槽，所述密封槽内设置有密封圈；离子源腔体的腔口四角分别开设有螺孔，其中两个相邻所述螺孔的孔口分别开设有第一扩孔，两个所述第一扩孔内分别以静配合方式设置有第一定位轴套，两个所述第一定位轴套的顶部向上延伸出各自的第一扩孔之外；所述离子源腔口盖板上对应于四个所述螺孔位置处分别开设有沉头销孔，对应于两个第一扩孔的两个所述沉头销孔下孔口开设有第二扩孔，每个所述第二扩孔内分别以静配合方式设置有第二定位轴套，两个所述第二定位轴套的内孔均为下大上小的台阶孔，其中一个所述台阶孔的大直径孔径大于对应第一定位轴套外径的0.02-0.08mm,另一个台阶孔的大直径孔径大于对应第一定位轴套外径的0.1-0.8mm。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语 “大”、“小”、“上”、“下”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。