[实用新型]一种ITO结构有效
申请号: | 201721052363.5 | 申请日: | 2017-08-22 |
公开(公告)号: | CN207097852U | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 吴琼;唐进强 | 申请(专利权)人: | 福建兆元光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/42 | 分类号: | H01L33/42;H01B5/16 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 350000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ito 结构 | ||
1.一种ITO结构,其特征在于,包括设置在P面(4)的ITO膜(1),所述ITO膜(1)包括依次附着在所述P面(4)的第一薄膜(13)、第二薄膜(12)、第三薄膜(11)、以及保护膜(2),所述第一薄膜(13)、所述第二薄膜(12)、以及所述第三薄膜(11)的透光率依次增大;
还包括沿垂直所述P面(4)的方向贯穿所述第一薄膜(13)、所述第二薄膜(12)、所述第三薄膜(11)、以及所述保护膜(2)的通孔(3)。
2.根据权利要求1所述的ITO结构,其特征在于,所述通孔(3)为圆孔,并且直径为5μm。
3.根据权利要求1所述的ITO结构,其特征在于,所述通孔(3)不规则地排列,并列任意两个相邻的所述通孔(3)的间距不小于5μm。
4.根据权利要求1所述的ITO结构,其特征在于,所述第一薄膜(13)、所述第二薄膜(12)、以及所述第三薄膜(11)的透光率不小于85%。
5.根据权利要求1所述的ITO结构,其特征在于,所述第一薄膜(13)、所述第二薄膜(12)、以及所述第三薄膜(11)为透光率依次增大的铟锡氧化物薄膜。
6.根据权利要求5所述的ITO结构,其特征在于,所述第一薄膜(13)的厚度小于所述第二薄膜(12),所述第二薄膜(12)的厚度小于所述第三薄膜(11)。
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