[实用新型]一种硬材料的表面研磨抛光装置有效

专利信息
申请号: 201721053171.6 申请日: 2017-08-22
公开(公告)号: CN207104617U 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 詹云贞 申请(专利权)人: 詹云贞
主分类号: B24B31/06 分类号: B24B31/06;B24B31/12
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 汤东凤
地址: 523000 广东省揭*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 材料 表面 研磨 抛光 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及抛光装置技术领域,具体为一种硬材料的表面研磨抛光装置。

背景技术

工件表面的研磨抛光加工,对于一般规则的表面可利用机械方式进行研磨抛光,但对于形状复杂的表面( 如凹槽表面) 则必须依赖人工进行研磨抛光作业,然而,该人工的研磨抛光方式,除了操作人员必须具有纯熟的技术外,其加工效率更难以提升,且研磨抛光的品质无法满足日益提高的表面精度要求。但是在现有的技术手段中,对于工件的表面加工还存在着以下问题,首先,如果工件的表面形状较复杂时,抛光效果不易控制,将造成工件的表面研磨抛光不均;其次就是在现有的抛光过程中,不能有效循环的使用抛光原料,而且在循环使用的过程中,不能自动过滤掉残渣等的干扰。

在现有的技术方案中,如申请号为201510732600.1公布的一种研磨抛光装置,通过抛光手柄在使用时的角度可以任意调节,实现多曲面复杂结构的研磨抛光,便于操作,以满足不同用户的使用需求。但是在这种抛光的处理过程中,需要进行准确的控制,而且只能按部就班的由点至面的进行研磨抛光,抛光效率低下。

发明内容

为了克服现有技术方案的不足, 本实用新型提供一种硬材料的表面研磨抛光装置,在对复杂工件表面进行摩擦打磨抛光的过程中,不破坏零件的原有形状和尺寸精度,可消除零件内部应力,并提高了零件表面光洁度和精度,能有效的解决背景技术提出的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种硬材料的表面研磨抛光装置,包括底盘和研磨槽,所述底盘通过支撑架固定,所述底盘内部固定安装有振动电机,所述底盘边缘通过复位弹簧与研磨槽连接,且振动电机通过振动轴与研磨槽底部中心直接连接,所述研磨槽内部中心固定安装有循环管,所述循环管呈圆柱状,且在循环管底部边缘设有回流孔,所述回流孔内侧还固定安装有过滤环网,在过滤环网中心还固定安装有回流管道,所述回流管道内部还固定安装有套柱,所述套柱顶部通过回型扣连接有顶盖,且循环管顶部和底部分别与顶盖和研磨槽底部固定连接,在套柱顶部侧面还设有溢散孔,在回流管道底部固定安装有回流泵。

作为本实用新型一种有选的技术方案,所述复位弹簧的数量不小于六个,且复位弹簧等间距均匀分布在底盘边缘。

作为本实用新型一种有选的技术方案,所述循环管和过滤环网之间的距离不小于2cm,且在过滤环网底部设有沉淀间。

作为本实用新型一种有选的技术方案,所述研磨槽顶部外壁还固定安装有环扣,所述顶盖和研磨槽之间通过环扣固定。

作为本实用新型一种有选的技术方案,所述回流管道内部还固定安装有转轴,所述转轴穿过研磨槽与振动轴连接,且在转轴顶部安装有横轴,所述横轴穿过循环管,且在横轴末端固定安装有搅拌轴,所述搅拌轴上安装拥有搅拌叶。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型通过振动电机高速旋转所产生的激振力并结合复位弹簧的收缩作用,使研磨槽内的研磨石和研磨液同被加工的零件产生规律性的相对运动,然后得到互相挤压,把凸出于零件表面的毛刺或氧化层磨掉,亦可将锐角倒圆和光亮抛光等,并且采用螺旋搅拌流动,实现三维振动,可以进一步提高工件的研磨打磨效率,由于是研磨石的相互摩擦,在处理后不破坏零件的原有形状和尺寸精度,可消除零件内部应力,并提高了零件表面光洁度和精度。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图;

图2为本实用新型循环管结构示意图;

图中:1-底盘;2-研磨槽;3-支撑架;4-振动电机;5-复位弹簧;6-振动轴;7-循环管;8-回流孔;9-过滤环网;10-回流管道;11-套柱;12-回型扣;13-顶盖;14-溢散孔;15-回流泵;16-沉淀间;17-环扣;18-转轴;19-横轴;20-搅拌轴;21-搅拌叶。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

以下各实施例的说明是参考附图,用以示例本实用新型可以用以实施的特定实施例。本实用新型所提到的方向和位置用语,例如「上」、「中」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向和位置。因此,使用的方向和位置用语是用以说明及理解本实用新型,而非用以限制本实用新型。

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