[实用新型]一种硅片清洗设备的进料装置

权利要求书

1.一种硅片清洗设备的进料装置，包括进料部，其特征在于：所述进料部内设置定位机构、硅片放置机构和分片机构，所述定位机构设置在所述硅片放置机构的前端，所述分片机构包括主喷元件和侧喷元件，所述主喷元件设置在所述硅片放置机构的尾端，所述侧喷元件设置在所述硅片放置机构的侧面，所述主喷元件与所述侧喷元件的进水管均与稳压泵连接，所述稳压泵与控制系统电连接。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备的进料装置，其特征在于：所述侧喷元件为两个，两个所述侧喷元件分别设置在所述硅片放置机构的两侧。

3.根据权利要求1或2所述的一种硅片清洗设备的进料装置，其特征在于：所述主喷元件出水孔至少为两列，每列至少2个出水孔。

4.根据权利要求3所述的一种硅片清洗设备的进料装置，其特征在于：所述出水孔包括第一出水孔和第二出水孔，所述第二出水孔的直径大于所述第一出水孔的直径。

5.根据权利要求4所述的一种硅片清洗设备的进料装置，其特征在于：所述侧喷元件上设置侧喷元件出水孔，所述侧喷元件出水孔的直径小于所述第二出水孔的直径。

6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备的进料装置，其特征在于：所述定位机构为移动挡板。

7.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备的进料装置，其特征在于：还包括进料机构，所述进料机构包括进料辊，所述进料辊设置于所述硅片放置机构的上方。

8.根据权利要求7所述的一种硅片清洗设备的进料装置，其特征在于：所述进料辊至少设置两个。