[实用新型]用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置

权利要求书

1.一种用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，用于净化含有低浓度的挥发性有机物的废气，其包括反应装置主体，其特征在于，所述反应装置为卧式固定床反应器，所述反应装置主体两端分别设置有与所述反应装置主体内腔相连通的气体入口和气体出口，所述气体入口与废气管道相连通，所述气体出口与外界空气相连通，所述反应装置主体的内腔中具有沿气体流动方向依次设置的一个以上等离子体发生器和一个以上催化剂模块，所述催化剂模块水平设置，所述气体入口与一个以上等离子体发生器之间设置有气流分布板，所述气流分布板至少用于对自所述气体入口进入反应装置主体内的所述废气进行气体分布，使所述废气绕过所述气流分布板后再经所述反应装置主体的内部管道依次进入所述的一个以上等离子体发生器和催化剂模块并进行反应。

2.根据权利要求1所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，其特征在于：所述反应装置主体包括长方体壳体，所述壳体前端通过扩散管与废气管道相连通，所述壳体后端通过收缩管与排风管道相连通。

3.根据权利要求1所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，其特征在于：所述等离子体发生器包括板式放电体，所述等离子体发生器设置于靠近气体入口一端，至少用以使绕过所述气流分布板后经所述反应装置主体的内部管道进入所述等离子体发生器的废气与等离子体接触并混合。

4.根据权利要求1所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，其特征在于：所述催化剂模块包括沿竖直方向间隔分布的复数个水平催化剂床层，相邻两个催化剂床层之间设置有可供所述废气通过的通道，进入催化剂模块的所述废气流经所述通道并分别与通道两侧的催化剂床层进行反应。

5.根据权利要求4所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，其特征在于：沿从上向下的方向，第一个催化剂床层的前端与所述反应装置主体的顶部密闭连接，第一个催化剂床层的后端与第二个催化剂床层的后端密闭连接，第二个催化剂床层的前端与第三个催化剂床层的前端密闭连接或与所述反应装置主体的底部密闭连接，依次类推，在n为大于或等于2的偶数的情况下，第(n+1)个催化剂床层的前端与第n个催化剂床层的前端密闭连接或与所述反应装置主体的底部密闭连接，第(n+1)个催化剂床层的后端与第(n+2)个催化剂床层的后端密闭连接，且最后一个催化剂床层的前端与所述反应装置主体的底部密闭连接。

6.根据权利要求5所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，其特征在于：所述催化剂床层的数量为2～8。

7.根据权利要求5所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，其特征在于：所述催化剂床层的厚度为20～100mm。

8.根据权利要求4-7中任一项所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置其特征在于：所述催化剂床层包括催化剂以及用以负载所述催化剂的筛板。

9.根据权利要求8所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，其特征在于：所述催化剂是颗粒状的或者具有蜂窝状结构。

10.根据权利要求1-7、9中任一项所述的用于净化低浓度挥发性有机物的常温催化反应装置，其特征在于：所述气流分布板垂直设置，且所述气流分布板的上端与所述反应装置主体的顶部之间、所述气流分布板的下端与所述反应装置主体的底部之间均留有设定间距。