[实用新型]一种彩膜基板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201721092123.8 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN207216210U 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 刘信;杨妮;王景余;刘梦秋;李辉;陈雪芳 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 彩膜基板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板,包括衬底,所述衬底具有有效显示区域和位于所述有效显示区域周边的周边区域,其特征在于,所述衬底的第一表面具有部分处于有效显示区域内的第一黑矩阵层,所述第一黑矩阵层设有与像素单元一一对应的开口区域,所述第一黑矩阵层在所述衬底的第一表面上的正投影未完全覆盖所述周边区域,且未覆盖的区域为封闭环形区域;在所述衬底背离所述第一表面的第二表面具有第二黑矩阵层,所述第二黑矩阵层在所述第二表面的正投影覆盖所述封闭环形区域在第二表面的正投影、且所述第二黑矩阵层在第二表面的正投影与所述第一黑矩阵层在第二表面的正投影之间部分重叠,且所述第二黑矩阵层在第二表面的正投影与所述第一黑矩阵层在第二表面的正投影重叠后完全覆盖所述彩膜基板的周边区域。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述封闭环形区域位于所述第一黑矩阵层的外侧,所述第二黑矩阵层在所述第一表面的正投影具有封闭环形结构且覆盖所述封闭环形区域,且所述第二黑矩阵层在所述第一表面的正投影的内边缘与所述第一黑矩阵层在所述第一表面正投影的外边缘交叠;或者,

所述封闭环形区域位于所述第一黑矩阵层的边缘区域,所述第一黑矩阵层包括位于所述封闭环形区域内侧的中心部和位于所述封闭环形区域外侧的边缘部,所述第二黑矩阵层在所述第一表面的正投影具有封闭环形结构且覆盖所述封闭环形区域,所述第二黑矩阵层在所述第一表面的正投影的内边缘与所述中心部在所述第一表面正投影的外边缘交叠、且所述第二黑矩阵层在所述第一表面的正投影的外边缘与所述边缘部在所述第一表面正投影的内边缘交叠。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述衬底的第一表面还设有彩色滤光层,所述彩色滤光层设置于所述第一黑矩阵层设有的开口区域内;或者,

所述衬底的第二表面设有彩色滤光层,所述彩色滤光层在所述第一表面的正投影覆盖所述第一黑矩阵层设置的开口区域。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,当所述彩色滤光层位于所述衬底的第一表面时,所述第二黑矩阵层背离所述衬底的一侧设有第一保护层,所述第一保护层覆盖所述第二黑矩阵层;

当所述彩色滤光层位于所述衬底的第二表面时,所述第一黑矩阵层背离所述衬底的一侧设有第一保护层,所述第一保护层覆盖所述第一黑矩阵层。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一保护层为透明导电层。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,当所述彩色滤光层位于所述衬底的第一表面、且所述封闭环形区域位于所述第一黑矩阵层外侧时,所述第二黑矩阵层具有导电性,且所述第一保护层和所述第二黑矩阵层共地;

当所述彩色滤光层位于所述衬底的第一表面、且所述封闭环形区域位于所述第一黑矩阵层边缘区域时,所述第一保护层、第二黑矩阵层以及所述第一黑矩阵层中的边缘部共地;

当所述彩色滤光层位于所述衬底的第二表面、且所述封闭环形区域位于所述第一黑矩阵层外侧时,所述第一保护层和所述第二黑矩阵层共地;

当所述彩色滤光层位于所述衬底的第二表面、且所述封闭环形区域位于所述第一黑矩阵层边缘区域时,所述第一保护层、第二黑矩阵层以及所述第一黑矩阵层的边缘部共地。

7.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩色滤光层背离所述衬底的一侧设置有第二保护层。

8.一种显示装置,包括阵列基板、液晶层,其特征在于,还包括如权利要求1-7任一项所述的彩膜基板,所述彩膜基板位于所述液晶层背离所述阵列基板的一侧。

9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,当所述彩膜基板包括第一保护层时,所述阵列基板朝向所述彩膜基板的表面设有接地金属线,所述第一保护层与所述接地金属线电连接。

10.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,当所述彩膜基板设有第二保护层时,所述第二保护层与所述阵列基板间设置有围绕所述液晶层分布的密封剂层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721092123.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top